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J-GLOBAL ID：202102224690668101   整理番号：21A3312761

水蒸気中での効率的なCO_2光還元のための優性(020)ファセットを有するCuBi_2O_4膜担持Bi_2O_3の超高速構築【JST・京大機械翻訳】

Ultra-fast construction of CuBi₂O₄ films supported Bi₂O₃ with dominant (0 2 0) facets for efficient CO₂ photoreduction in water vapor

著者 (11件)： Shi Weina (School of Chemistry and Materials Engineering, Xinxiang University, Xinxiang 453000, China) ,  Shi Weina (Henan Photoelectrocatalytic Material and Micro-Nano Application Technology Academician Workstation, Xinxiang University, Xinxiang 450003, China) ,  Wang Ji-Chao (College of Chemistry and Chemical Engineering, Henan Institute of Science and Technology, Xinxiang 453000, China) ,  Guo Xiaowei (School of Chemistry and Materials Engineering, Xinxiang University, Xinxiang 453000, China) ,  Guo Xiaowei (Henan Photoelectrocatalytic Material and Micro-Nano Application Technology Academician Workstation, Xinxiang University, Xinxiang 450003, China) ,  Tian Hong-Ling (College of Chemistry and Chemical Engineering, Henan Institute of Science and Technology, Xinxiang 453000, China) ,  Zhang Wanqing (College of Chemistry and Chemical Engineering, Henan Institute of Science and Technology, Xinxiang 453000, China) ,  Gao Huiling (College of Chemistry and Chemical Engineering, Henan Institute of Science and Technology, Xinxiang 453000, China) ,  Han Huijuan (College of Chemistry and Chemical Engineering, Henan Institute of Science and Technology, Xinxiang 453000, China) ,  Li Renlong (College of Chemistry and Chemical Engineering, Henan Institute of Science and Technology, Xinxiang 453000, China) ,  Hou Yuxia (College of Chemistry and Chemical Engineering, Henan Institute of Science and Technology, Xinxiang 453000, China)
資料名： Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)
巻： 890  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： D0083A  ISSN： 0925-8388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： CuBi_2O_4/Bi_2O_3薄膜を噴霧熱分解-焼成法により市販ガラス上に合成した。支配的な(020)ファセットを持つ単斜晶相Bi_2O_3を,溶射プロセスの温度制御により正方晶相CuBi_2O_4の表面に成長させた。CO_2還元のための合成材料の光触媒活性を,可視光照射(λ>400nm)の下で水蒸気の存在下で測定した。最適複合膜のCO,CH_4およびO_2収率は照射12時間後に247.62,119.27および48.00μmol/m2に達した。複合膜は物理的損傷に抵抗し,サイクリング試験において良好な光触媒活性を示した。さらに,主生成物のタイプは光強度とともに変化し,それらの収率は光波長とともに変化することが分かった。露出した(020)ファセットはH_2O分子の吸着能力を効率的に改善した。一方,膜表面の疎水性は,CO_2の吸着サイトが豊富なH_2O分子によって占有されないことを確実にした。S-スキーム電荷移動機構をCuBi_2O_4/Bi_2O_3ヘテロ構造のインターレースバンド配列と種々の光条件による制御実験により確認した。この報告で得られた結果は,光還元CO_2から太陽燃料への適切な遷移金属酸化物を有する先進Sスキームヘテロ構造を設計する道を開く。Copyright 2021 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： ガラス ,  薄膜 ,  溶射 ,  *光還元 ,  疎水性 ,  露光 ,  単斜晶系 ,  正方晶系 ,  *ファセット ,  光触媒 ,  複合膜
準シソーラス用語： ヘテロ構造 ,  吸着サイト ,  光触媒活性 ,  可視光照射 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 光触媒 ,  CO_2削減 ,  CuBi_2O_4/Bi_2O_3 ,  露出したファセット ,  S-スキーム

分類 (1件)： 光化学一般  (CB08010U)

タイトルに関連する用語 (5件)： 水蒸気 ,  光還元 ,  優性 ,  担持 ,  構築