プラズマ物理応用のためのシリコン光電子増倍管特性評価装置の設計と実装【JST・京大機械翻訳】

Baquero P A; Castaneda L F; Hernandez W A; Fuentes F; Cruz-Cardozo J L

文献

J-GLOBAL ID：202102226322914396 整理番号：21A0164941

プラズマ物理応用のためのシリコン光電子増倍管特性評価装置の設計と実装【JST・京大機械翻訳】

Design and implementation of silicon photomultiplier characterization setup for plasma physics applications

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資料名：
巻： 1674 号： 1 ページ： 012001 (6pp) 発行年： 2020年
JST資料番号： W5565A ISSN： 1742-6588 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

シリコンディスプレイは広く用いられているデバイスであり,複数の科学分野で直接応用されている。現在,コロンビア,Universidad Antoニオ Narino(コロンビア)は,ブラジル,Universidade de Sao Paulowとの共同で,Langmuirプローブを用いて,TCABRトカマクにおけるプラズマカラムのエッジ領域におけるコヒーレント構造の研究プロジェクト特性化を財政した。このプロジェクトでは,プラズマと最近,プラズマカラムからのX線発光を測定するために,シリコンディスプレイを提案した。この応用では,プラズマの照射への曝露時の可能な変化を確立するために,挙動制御条件におけるシリコン・ホルスコリンの特定特性を知る必要がある;シリコン潤滑特性の一つは,その応答に擾乱を発生させる温度依存性により,より重要である。制御された条件でのシリコン潤滑を特性化するために,室温から50°Cまでの温度変動を室温から50°Cに到達し,定常状態誤差が2%以下で,オーバシュートが5.53%の,温度変動を室温から50°Cに到達する,アナログ積分比例温度自動制御システムを開発した。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

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固体デバイス製造技術一般 , 半導体のルミネセンス , 半導体薄膜 , 核融合装置

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