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J-GLOBAL ID：202102226902054351   整理番号：21A0531058

第一原理研究による窒化チタン(001)表面上のAlN膜の吸着挙動と結晶構造【JST・京大機械翻訳】

Adsorption behaviors and crystal structure of AlN films on TiN (001) surfaces by first-principles study

著者 (5件)： Zou Zhuoliang (Center of Ecological Collaborative Innovation for Aluminum Industry in Guangxi, Guangxi Key Laboratory of Processing for Non-ferrous Metal and Featured Materials, School of Resources, Environment and Materials, Guangxi University, Nanning, 530004, China) ,  Mo Zukang (Center of Ecological Collaborative Innovation for Aluminum Industry in Guangxi, Guangxi Key Laboratory of Processing for Non-ferrous Metal and Featured Materials, School of Resources, Environment and Materials, Guangxi University, Nanning, 530004, China) ,  He Huan (Center of Ecological Collaborative Innovation for Aluminum Industry in Guangxi, Guangxi Key Laboratory of Processing for Non-ferrous Metal and Featured Materials, School of Resources, Environment and Materials, Guangxi University, Nanning, 530004, China) ,  Shen Xiaoming (Center of Ecological Collaborative Innovation for Aluminum Industry in Guangxi, Guangxi Key Laboratory of Processing for Non-ferrous Metal and Featured Materials, School of Resources, Environment and Materials, Guangxi University, Nanning, 530004, China) ,  Fu Yuechun (Center of Ecological Collaborative Innovation for Aluminum Industry in Guangxi, Guangxi Key Laboratory of Processing for Non-ferrous Metal and Featured Materials, School of Resources, Environment and Materials, Guangxi University, Nanning, 530004, China)
資料名： Superlattices and Microstructures  (Superlattices and Microstructures)
巻： 150  ページ： Null  発行年： 2021年 
JST資料番号： D0600B  ISSN： 0749-6036  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 窒化チタン(001)表面上のAlおよびN原子の初期吸着挙動および窒化チタン(001)基板上の岩塩AlN(rs-AlN)およびウルツ鉱型AlN(wz-AlN)膜の構造安定性を第一原理によって計算した。結果は,Al原子が窒化チタン(001)表面のN原子上に最初に吸着され,次にAlのNとNへの原子結合が,連続的吸着を形成するためにエネルギー的に有利であることを示した。AlN吸着原子によって形成した結晶構造をAlN/窒化チタン界面の結合エネルギーを計算することによって研究し,そして,AlN膜における歪エネルギーは窒化チタン(001)基板上で成長する傾向があり,AlN層の厚みが8.9nm以上のとき,それは安定なwz-AlN構造に変態しない。この計算結果は,実験における厚いrs-AlN膜の調製のための指針を提供した。Copyright 2021 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 界面 ,  *吸着 ,  結合エネルギー ,  *結晶構造 ,  *アルミニウム ,  岩塩 ,  *窒化アルミニウム ,  歪エネルギー ,  第一原理
準シソーラス用語： *窒化チタン ,  吸着原子 ,  構造安定性 ,  窒素原子 ,  ウルツ鉱 ,  結晶転移 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 第一原理 ,  吸着挙動 ,  界面結合エネルギー ,  歪エネルギー ,  結晶転移

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (7件)： 第一原理 ,  研究 ,  窒化チタン ,  AlN ,  吸着 ,  挙動 ,  結晶構造