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J-GLOBAL ID：202102227158133817   整理番号：21A0577162

動的熱フィルタリングを用いた循環冷却水の温度変動減衰【JST・京大機械翻訳】

Temperature Fluctuation Attenuation of Circulating Cooling Water Using Dynamic Thermal Filtering

著者 (5件)： Lu Yesheng ,  Cui Junning ,  Tan Jiubin ,  Bian Xingyuan ,  Zhao Yamin
資料名： Applied Sciences (Web)  (Applied Sciences (Web))
巻： 10  号： 15  ページ： 5338  発行年： 2020年 
JST資料番号： U7135A  ISSN： 2076-3417  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高温安定性を有する循環冷却水(CCW)の需要と温度制御に対する迅速な応答は,精密工学にとって不可欠であり,従って,動的熱フィルタリング法を本論文で提案した。いくつかのCCWはバイパスされ,ブロックされ,熱容量媒体として使用され,CCWの温度変動は媒体との熱交換によって著しく減少する。媒質の温度は,リアルタイム更新によってCCW温度の設定値に動的に従い,従って,迅速なCCW温度制御応答を実現した。温度変動の減衰比を導出し,この方法の有効性を理論的に検証した。実験結果は,提案した方法によって,CCW温度変動減衰比が,数十dB(3.47dB,6.91dB,10.97dB,および15.28dB,温度変動周波数0.01Hz,0.025Hz,0.053Hz,および0.105Hzに対応する)を達成することを示した。熱容量媒体の更新時間は82sであり,CCWの変化の設定値が変化するとき,温度変動減衰が機能的に有効であることを意味した。提案方法は,操作において低コストであり,高い安定性と良好な動的温度制御性能を有するCCWの挑戦的な要求を満たすための効果的アプローチを提供する。Copyright 2021 The Author(s) All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 温度制御 ,  高温 ,  熱容量 ,  可制御性 ,  *フィルタリング ,  媒質 ,  バイパス ,  *温度変動 ,  リソグラフィー ,  有効性 ,  熱交換
準シソーラス用語： 減衰比 ,  目標値 ,  実時間 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 動的熱フィルタリング ,  循環冷却水 ,  温度安定性 ,  迅速応答 ,  リソグラフィー

分類 (3件)： 燃料電池  (YB04040V) ,  冷凍装置  (PD03000T) ,  熱交換器,冷却器  (PA03020G)

引用文献 (21件)：

• Mayr, J.; Jedrzejewski, J.; Uhlmann, E.; Donmez, M.A.; Knapp, W.; Härtig, F.; Wendt, K.; Moriwaki, T.; Shore, P.; Schmitt, R.; et al. Thermal issues in machine tools. CIRP Ann. -Manuf. Technol. 2012, 61, 771-791.
• Yamada, A. Arf immersion lithography for 45-nm and beyond. Proc. Spie-Int. Soc. Opt. Eng. 2007, 6607, 66071-66081.
• Zhao, Y.; Trumper, D.L.; Heilmann, R.K.; Schattenburg, M.L. Optimization and temperature mapping of an ultra-high thermal stability environmental enclosure. Precis. Eng. 2010, 34, 164-170.
• Cui, L.Y.; Zhang, D.W.; Gao, W.G.; Qi, X.Y.; Shen, Y. Thermal errors simulation and modeling of motorized spindle. Adv. Mater. Res. 2011, 154-155, 1305-1309.
• Tay, A.; Chua, H.T.; Wang, Y.H.; Ngo, Y.S. Equipment design and control of advanced thermal-processing module in lithography. IEEE Trans. Ind. Electron. 2010, 57, 1112-1119.

タイトルに関連する用語 (4件)： フィルタリング ,  循環冷却水 ,  温度変動 ,  減衰