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J-GLOBAL ID：202102228842229276   整理番号：21A3388626

NH_4Clを添加したガス輸送自己伝搬高温合成によるSiC基板上のSi_3N_4被覆の形成【JST・京大機械翻訳】

Formation of Si₃N₄ coating on SiC substrate by gas transporting self-propagating high-temperature synthesis with the addition of NH₄Cl

著者 (10件)： Tian Zhaobo (State Key Laboratory of New Ceramics and Fine Processing, Tsinghua University, Beijing, China) ,  Tian Zhaobo (Guangdong Provincial Key Laboratory of Thermal Management Engineering and Materials, Tsinghua Shenzhen International Graduate School, Shenzhen, China) ,  Du Songmo (State Key Laboratory of New Ceramics and Fine Processing, Tsinghua University, Beijing, China) ,  Cui Wei (State Key Laboratory of New Ceramics and Fine Processing, Tsinghua University, Beijing, China) ,  Cui Wei (Foshan (Southern China) Institute for New Materials, Foshan, Guangdong, China) ,  Zhang Jie (State Key Laboratory of New Ceramics and Fine Processing, Tsinghua University, Beijing, China) ,  Li Fei (State Key Laboratory of New Ceramics and Fine Processing, Tsinghua University, Beijing, China) ,  Chen Zhanglin (State Key Laboratory of New Ceramics and Fine Processing, Tsinghua University, Beijing, China) ,  Chen Kexin (State Key Laboratory of New Ceramics and Fine Processing, Tsinghua University, Beijing, China) ,  Liu Guanghua (State Key Laboratory of New Ceramics and Fine Processing, Tsinghua University, Beijing, China)
資料名： Journal of the American Ceramic Society  (Journal of the American Ceramic Society)
巻： 105  号： 1  ページ： 50-54  発行年： 2022年 
JST資料番号： C0253A  ISSN： 0002-7820  CODEN： JACTAW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高性能窒化ケイ素基板(Si_3N_4)の緊急需要の下で,本論文では,高性能Si_3N_4基板の候補と考えられるNH_4Clを添加した炭化ケイ素(SiC)基板上にSi_3N_4被覆を形成する新しいガス輸送自己伝搬高温合成技術(GTST)を報告した。Si_3N_4被覆の形成に及ぼすNH_4Clの影響を調べ,NH_4Clの関与による反応機構を考察した。NH_4Clの添加はSiC基板の両側に厚さ20-80μmの緻密なSi_3N_4被覆の形成を促進した。反応中,NH_4Clは固体と液体Si粒子を気相SiCl_4に変換するキャリアとして作用し,SiC基板へ輸送する。最後に,SiCl_4は,燃焼波により発生した高温下でSi_3N_4被覆中に窒化物である。さらに,研究機構はGTSTによる他の複雑なセラミック被覆のための指針を提供できる。Copyright 2021 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *高温 ,  *ケイ素 ,  *被覆 ,  窒化 ,  窒化物 ,  炭化ケイ素 ,  燃焼波 ,  セラミック被覆 ,  反応機構 ,  気相 ,  気体輸送 ,  窒化ケイ素
準シソーラス用語： *SHS【合成】 ,  シリコンウエハ ,  炭化ケイ素基板 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： コーティング ,  ガス輸送SHS ,  SiC ,  窒化けい素

分類 (1件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

タイトルに関連する用語 (3件)： ガス輸送 ,  自己伝搬高温合成 ,  SiC基板