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J-GLOBAL ID:202102229142699977   整理番号:21A3349025

高密度63.7Jcm-3のエネルギー貯蔵デバイス用の6.5nm厚反強誘電体HfAlO_x膜【JST・京大機械翻訳】

A 6.5 nm thick anti-ferroelectric HfAlOx film for energy storage devices with a high density of 63.7 J cm-3
著者 (8件):
資料名:
巻: 55  号:ページ: 014003 (9pp)  発行年: 2022年 
JST資料番号: B0092B  ISSN: 0022-3727  CODEN: JPAPBE  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,ドープ-HfO_2膜における高い飽和分極電荷密度とドーピング濃度を達成する包括的に最適化した反強誘電性HfAlO_x膜を実験的に実証した。これにより,高いエネルギー貯蔵密度(ESD)を有する超薄抗強誘電性エネルギー貯蔵デバイスを製造することができた。300°Cの最適堆積温度,18:1のHf:Al比,およびタングステンの電極で,6.5nm厚さの反強誘電性HfAlO_x膜を,63.7Jcm-3の高いESDで実現し,これは,このような高いESDと関連する,すべての報告された研究の中で最も薄い反強誘電性膜である。これは,反強誘電性HfAlO_x膜のスケーリング能力を改善する効果的な方法を提供するだけでなく,相転移の制御を強化する新しいアプローチも示す。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (5件):
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半導体のルミネセンス  ,  絶縁体結晶の電子構造  ,  電子・磁気・光学記録  ,  酸化物結晶の磁性  ,  金属結晶の磁性 
タイトルに関連する用語 (3件):
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