文献

J-GLOBAL ID：202102229819394550   整理番号：21A0672538

一次元金属-誘電体フォトニック結晶遮蔽膜の低反射率の研究と設計【JST・京大機械翻訳】

Research and Design on Low Reflectivity of One-dimensional Metal-Dielectric Photonic Crystal Shielding Film

著者 (5件)： Xu Xiaoli (The 33rd Research Institute of China Electronics Technology Group Corporation,Taiyuan City,030032) ,  Wang Teng (The 33rd Research Institute of China Electronics Technology Group Corporation,Taiyuan City,030032) ,  Zao Yajuan (The 33rd Research Institute of China Electronics Technology Group Corporation,Taiyuan City,030032) ,  Sun Jiwei (The 33rd Research Institute of China Electronics Technology Group Corporation,Taiyuan City,030032) ,  Qian Mingcan (The 33rd Research Institute of China Electronics Technology Group Corporation,Taiyuan City,030032)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2020  号： NEMO  ページ： 1-4  発行年： 2020年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 一次元金属誘電体フォトニック結晶遮蔽膜の可視光透過率を改善するために,等価針層挿入法によりOMPC膜系に対して光学中間層反射防止設計を採用した。光学反射防止OMPC複合膜システムを,遮蔽膜の可視光透過能力を増加させる,光学機能膜とOMPC膜システムから成る複合構造モデルによって形成した。光学干渉散乱理論と等価屈折率を用いてOMPC遮蔽膜の膜構造を解析し,屈折率整合法とソフトウェア支援設計を用いて膜系の光透過率と反射率を計算した。その結果,複合膜系は透過率を著しく改善することが分かった。Copyright 2021 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 屈折率 ,  *反射率 ,  *誘電体 ,  散乱理論 ,  光干渉 ,  可視光 ,  膜構造 ,  ソフトウェア ,  透過率 ,  *一次元 ,  複合膜 ,  *フォトニック結晶 ,  複合構造
準シソーラス用語： 光透過率 ,  反射防止 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 図形・画像処理一般  (JE04010I)

タイトルに関連する用語 (6件)： 誘電体 ,  フォトニック結晶 ,  遮蔽膜 ,  反射率 ,  研究 ,  設計