異なる仮想温度を有する二酸化ケイ素(SiO<sub>2</sub>)ガラスの最初の鋭い回折ピークと物理的性質の関係

MASAI Hirokazu; KOHARA Shinji; ONODERA Yohei; KOREEDA Akitoshi; SAITO Kazuya; SEKIYA Edison Haruhico; KITAMURA Naoyuki

文献

J-GLOBAL ID：202102231705351003 整理番号：21A0426324

異なる仮想温度を有する二酸化ケイ素(SiO₂)ガラスの最初の鋭い回折ピークと物理的性質の関係

Relationship between the first sharp diffraction peak and physical properties of silicon dioxide (SiO₂) glasses possessing different fictive temperatures

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資料名：
巻： 128 号： 12 ページ： 1038-1044(J-STAGE) 発行年： 2020年
JST資料番号： U0409A ISSN： 1348-6535 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

ガラス構造と物理特性の間の相関を研究することは,新しい機能材料の開発のために重要である。ガラスの物理的及び構造的パラメータは作製条件に依存することは良く知られている。仮想温度T_fは,過冷却液体状態から得られたガラスの標準の1つである。T_f値は,Si-O-Si振動の倍音モードの構造緩和を用いて定義されるので,より長範囲での構造秩序とT_fの相関は探求の価値がある。ここでは,X線回折データで観察された最初の鋭い回折ピーク(FSDP)により精査した異なるT_f値を有するSiO₂ガラスの構造変化を調べた。SiO₂ガラスの焼鈍,すなわちT_fの減少により,FSDPの先鋭化が観察された。FSDPの構造周期性と相関長はT_fの増加と共に減少する。FSDPに寄与するより小さな構造単位の増加がSiO₂ガラスの弾性率の増加の起源である。(翻訳著者抄録)

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ガラスの性質・分析・試験

引用文献 (40件)：

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異なる仮想温度を有する二酸化ケイ素(SiO2)ガラスの最初の鋭い回折ピークと物理的性質の関係

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