文献

J-GLOBAL ID：202102232135016605   整理番号：21A0696614

プラズマCVDにより作製したSiO:CH微粒子堆積膜における正DCバイアス印加による構造制御及び撥水特性の向上

Improvement of Structure Controllability and Water Repellency of SiO:CH Particle Films Deposited by Plasma CVD Process with Positive DC Bias

著者 (5件)： 池田健太郎 (千葉工大) ,  呉羽喬介 (千葉工大) ,  菅野匡宏 (千葉工大) ,  井上泰志 (千葉工大) ,  高井治 (関東学院大)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 81st  ページ： ROMBUNNO.9p-Z05-13  発行年： 2020年08月26日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 1.緒言.有機基含有シリカ(SiO:CH)薄膜は,低誘電性や疎水性,ガスバリア性等の特性があることで近年注目されている.超低誘電材料や超撥水材料としての観点から,微細構造化薄膜の堆積プロセス開発が求められている.我々はこれまで,プラズマCV...【本文一部表示】

シソーラス用語： *プラズマ ,  接触角 ,  走査電子顕微鏡 ,  単結晶 ,  薄膜 ,  水滴 ,  *微粒子 ,  疎水性 ,  二酸化ケイ素 ,  誘電材料 ,  *プラズマCVD ,  直流電圧 ,  凝集体
準シソーラス用語： 薄膜形成 ,  超撥水 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (5件)： 太陽電池  (NC03084O) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  酸化物薄膜  (BK14050P) ,  プラズマ応用  (BJ02110K) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (11件)： プラズマCVD ,  作製 ,  SiO ,  CH ,  微粒子 ,  堆積 ,  DC ,  バイアス ,  印加 ,  構造制御 ,  撥水