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J-GLOBAL ID:202102234303871683   整理番号:21A1774680

二重流れ制御デバイスの適用によるファン形状出口形状による冷却孔のフィルム効果の増強:デバイスオフセットを考慮した最適化【JST・京大機械翻訳】

Enhancement of Film Effectiveness of Cooling Holes With Fan-Shaped Exit Geometry by the Application of Double Flow-Control Devices: Optimization in Consideration of Device Offset
著者 (1件):
資料名:
号: GT2017  ページ: Null  発行年: 2017年 
JST資料番号: A0478C  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,ダブルフロー制御デバイス(DFCD)のCFDベース最適化を扱った。ロバスト最適化技術として,Taguchi法を用いて膜有効性を高める特許技術。本研究では,最適化プロセスにおける雑音因子として,製造プロセスで生じる可能性のある穴の中心線に関してデバイスのオフセットを採用した。本研究の目的は,Penn州大学[9]によって開発された7~77形状の穴と呼ばれる洗練された扇形冷却孔の冷却性能を改善するためのDFCDの可能性を調査することである。最適化したDFCDモデルの空力的および熱的性能を,IRカメラおよび温度すくいを用いた詳細な実験により評価した。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
分類
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ガスタービン  ,  対流・放射熱伝達 

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