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J-GLOBAL ID：202102234698704082   整理番号：21A2841292

マスク投影ステレオリソグラフィーに基づく制御可能な小孔構造を有する炭素足場【JST・京大機械翻訳】

Carbon scaffold with controllable small pore structure based on mask projection stereolithography

著者 (8件)： Wang Yaning (State Key Laboratory for Manufacturing System Engineering, School of Mechanical Engineering, Xi’an Jiaotong University, 710054 Xi’an, ShaanXi, China) ,  Chen Ruomeng (State Key Laboratory for Manufacturing System Engineering, School of Mechanical Engineering, Xi’an Jiaotong University, 710054 Xi’an, ShaanXi, China) ,  Chen Ruomeng (Department of Electromechanical Engineering, Tangshan University, 063000 Tangshan, HeBei, China) ,  Chen Xu (State Key Laboratory for Manufacturing System Engineering, School of Mechanical Engineering, Xi’an Jiaotong University, 710054 Xi’an, ShaanXi, China) ,  Hu Huiwu (State Key Laboratory for Manufacturing System Engineering, School of Mechanical Engineering, Xi’an Jiaotong University, 710054 Xi’an, ShaanXi, China) ,  Li Tengfei (State Key Laboratory for Manufacturing System Engineering, School of Mechanical Engineering, Xi’an Jiaotong University, 710054 Xi’an, ShaanXi, China) ,  Liu Yaxiong (Ji Hua Laboratory, 528200 Foshan, China) ,  Duan Yugang (State Key Laboratory for Manufacturing System Engineering, School of Mechanical Engineering, Xi’an Jiaotong University, 710054 Xi’an, ShaanXi, China)
資料名： Materials Today Communications  (Materials Today Communications)
巻： 28  ページ： Null  発行年： 2021年 
JST資料番号： W3060A  ISSN： 2352-4928  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Mask投影ステレオリソグラフィー(MPSL)は,その高い印刷解像度のため,炭素足場前駆体として使用される多孔性高分子構造を作製するのに適している。本研究では,制御可能な小さな多孔質構造を有する炭素足場をMPSLにより作製した。炭素足場前駆体として用いた高分子格子構造をMPSLにより初めて作製した。塩化ナトリウムを粒状支持体として選択し,ナノシリカ粒子を粒状担体に導入し,塩化ナトリウムが格子構造を容易に充填できるようにした。制御可能な低い収縮(41.3%)と小さな多孔性構造(骨格厚さ=λ≦40μmと細孔径=λ≦300μm)の炭素足場を,粒状担体中の高分子格子構造を熱分解して得て,続いてフッ化水素酸(HF)で処理した。未処理およびHF処理足場は両方とも単純な物質炭素で構成され,未加工足場に埋め込まれた酸化ケイ素粒子はHFにより洗浄された。最後に,足場の圧縮特性を調べた。積層方向に平行および垂直方向の圧縮力の適用下の足場の破壊外観は異なり,積層方向に垂直な圧縮特性は積層方向に平行なものより優れていた。従って,提案した方法は,最適な機械的性質を得るために,応力解析に基づく小さな制御可能な多孔質構造を有するマルチスケール炭素足場の作製に有効であり,多くの応用のための有望な材料になると推論できる。Copyright 2021 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 応力解析 ,  機械的性質 ,  熱分解 ,  印刷 ,  格子構造 ,  *炭素 ,  塩化ナトリウム ,  酸化ケイ素 ,  高分子 ,  前駆体
準シソーラス用語： フッ化水素酸 ,  マルチスケール ,  圧縮力 ,  多孔構造 ,  シリカナノ粒子 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： マスク投影 ,  ステレオリソグラフィー ,  炭素足場 ,  圧縮特性

分類 (1件)： 医用素材  (GA05040H)

タイトルに関連する用語 (6件)： マスク ,  投影 ,  ステレオリソグラフィー ,  小孔 ,  炭素 ,  足場