文献

J-GLOBAL ID：202102235078167559   整理番号：21A0579962

同軸線マイクロ波プラズマのための発光分析(OES)によるLangmuirプローブ診断【JST・京大機械翻訳】

Langmuir Probe Diagnostics with Optical Emission Spectrometry (OES) for Coaxial Line Microwave Plasma

著者 (6件)： Chen Chi ,  Fu Wenjie ,  Zhang Chaoyang ,  Lu Dun ,  Han Meng ,  Yan Yang
資料名： Applied Sciences (Web)  (Applied Sciences (Web))
巻： 10  号： 22  ページ： 8117  発行年： 2020年 
JST資料番号： U7135A  ISSN： 2076-3417  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Langmuirプローブはプラズマパラメータを測定する実現可能な方法である。しかし,放電プラズマ中の反応の進行に伴い,汚染はプローブ表面に付着し,より高い不正確な電子温度をもたらす。次に電子密度は得られなかった。本論文では,Langmuirプローブと発光分光法(OES)を組合せた簡単なアプローチを報告し,この問題を解決するための電子温度を得るために使用できる。Langmuirプローブでさえ,このプローブ電流電圧(IV)曲線も,OESスペクトルによるプローブ電流電圧(IV)曲線も,近似電子温度と密度を与える。2.45GHzマグネトロンで駆動した自家製同軸線マイクロ波プラズマ源を採用して,この mothを確かめ,異なる圧力(4080Pa)とマイクロ波電力(400800W)の電子温度と密度を測定し,それが実現可能であることを検証した。Copyright 2021 The Author(s) All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *Langmuir探針 ,  電圧 ,  電子温度 ,  電子密度 ,  電流 ,  プラズマ診断 ,  マグネトロン ,  *同軸線路 ,  *発光分析 ,  近似法 ,  スペクトル ,  プラズマパラメータ ,  発光分光法
準シソーラス用語： *マイクロ波プラズマ ,  放電プラズマ , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： プラズマ診断 ,  Langmuirプローブ ,  発光分光法 ,  電子温度 ,  電子密度

分類 (1件)： プラズマ診断  (BJ02090L)

引用文献 (22件)：

• Liehr, M.; Dieguez-Campo, M. Microwave PECVD for large area coating. Surf. Coat. Technol. 2005, 200, 21-25.
• Gosar, Ž.; Đonlagić, D.; Pevec, S.; Kovăc, J.; Mozetĭc, M.; Primc, G.; Vesel, A.; Zaplotnik, R. Deposition Kinetics of Thin Silica-Like Coatings in a Large Plasma Reactor. Materials 2019, 12, 3238.
• Cole, M.T.; Milne, W.I. Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition of Horizontally Aligned Carbon Nanotubes. Materials 2013, 6, 2262-2273.
• Šamara, V.; Booth, J.; Marneffe, J.D.; Milenin, A.P.; Brouri, M.; Boullart, W. A dc-pulsed capacitively coupled planar Langmuir probe for plasma process diagnostics and monitoring. Plasma Sources Sci. Technol. 2012, 21, 65004.
• Chen, F.F. Langmuir probe diagnostics. In Proceedings of the 2003 IEEE-International Conference on Plasma Science (ICOPS), Jeju, Korea, 2-5 June 2003.

タイトルに関連する用語 (5件)： 同軸線 ,  マイクロ波プラズマ ,  発光分析 ,  Langmuirプローブ ,  診断