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J-GLOBAL ID：202102235369857468   整理番号：21A0001893

229(m)Th生成に対する薄い233U源のアルファ分光特性評価【JST・京大機械翻訳】

Alpha spectrometric characterization of thin ²³³U sources for ^229(m)Th production

著者 (18件)： Haas Raphael (Department of Chemistry - TRIGA Site, Johannes Gutenberg University Mainz, 55099 Mainz, Germany) ,  Haas Raphael (Helmholtz Institute Mainz, 55099 Mainz, Germany) ,  Haas Raphael (GSI Helmholtzzentrum fuer Schwerionenforschung GmbH, 64291 Darmstadt, Germany) ,  Haas Raphael (PRISMA Cluster of Excellence, Johannes Gutenberg University Mainz, 55099 Mainz, Germany) ,  Hufnagel Michelle (Department of Chemistry - TRIGA Site, Johannes Gutenberg University Mainz, 55099 Mainz, Germany) ,  Abrosimov Roman (Department of Chemistry - TRIGA Site, Johannes Gutenberg University Mainz, 55099 Mainz, Germany) ,  Duellmann Christoph E. (Department of Chemistry - TRIGA Site, Johannes Gutenberg University Mainz, 55099 Mainz, Germany) ,  Duellmann Christoph E. (Helmholtz Institute Mainz, 55099 Mainz, Germany) ,  Duellmann Christoph E. (GSI Helmholtzzentrum fuer Schwerionenforschung GmbH, 64291 Darmstadt, Germany) ,  Duellmann Christoph E. (PRISMA Cluster of Excellence, Johannes Gutenberg University Mainz, 55099 Mainz, Germany) ,  Krupp Dominik (Institut fuer Physikalische Chemie und Radiochemie, Hochschule Mannheim - University of Applied Sciences, 68163 Mannheim, Germany) ,  Mokry Christoph (Department of Chemistry - TRIGA Site, Johannes Gutenberg University Mainz, 55099 Mainz, Germany) ,  Mokry Christoph (Helmholtz Institute Mainz, 55099 Mainz, Germany) ,  Renisch Dennis (Department of Chemistry - TRIGA Site, Johannes Gutenberg University Mainz, 55099 Mainz, Germany) ,  Renisch Dennis (Helmholtz Institute Mainz, 55099 Mainz, Germany) ,  Runke Jorg (Department of Chemistry - TRIGA Site, Johannes Gutenberg University Mainz, 55099 Mainz, Germany) ,  Runke Jorg (GSI Helmholtzzentrum fuer Schwerionenforschung GmbH, 64291 Darmstadt, Germany) ,  Scherer Ulrich W. (Institut fuer Physikalische Chemie und Radiochemie, Hochschule Mannheim - University of Applied Sciences, 68163 Mannheim, Germany)
資料名： Radiochimica Acta  (Radiochimica Acta)
巻： 108  号： 12  ページ： 923-941  発行年： 2020年 
JST資料番号： C0563A  ISSN： 0033-8230  CODEN： RAACA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 229Thイオンを供給する233Uα反跳イオン源の生成に4つの異なる技術を適用した。それらを指示薬として放出アルファ粒子を用いて229Th反跳イオンの最小エネルギー広がりに関して比較した。分子メッキ,Drop-on-Demandインクジェット印刷,化学官能化シリコン表面上の希薄硝酸溶液からのキレート化,および不動態化チタン表面上の自己吸着の技術を使用した。すべての製造源を,アルファ分光法,X線撮影イメージング,および走査電子顕微鏡を用いて特性評価した。推定反跳イオン速度の直接検証を,自己吸着と分子メッキにより調製した232U反跳イオン源から228Th反跳イオンを収集することにより得た。キレート化と自己吸着に基づくアプローチは,単色反跳イオンを供給する反跳イオン源の調製に最も有望である。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： α粒子 ,  吸着 ,  走査電子顕微鏡 ,  ケイ素 ,  チタン ,  めっき ,  不動態化 ,  指示薬 ,  画像処理 ,  キレート化 ,  インクジェット印刷 ,  *反跳イオン ,  官能化
準シソーラス用語： 最小エネルギー原理 ,  *分光特性 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： オンデマンド ,  官能化表面 ,  分子めっき ,  単分子層 ,  反跳イオン源 ,  自己吸着

分類 (2件)： 放射性廃棄物  (MB05000Y) ,  超重原子核  (BG02070G)

タイトルに関連する用語 (3件)： Th ,  分光特性 ,  評価