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J-GLOBAL ID：202102238056862792   整理番号：21A0066016

窒素中の反復サブマイクロ秒パルス下のストリーマ動力学とフラッシュオーバ特性に及ぼす空間および表面記憶効果の影響【JST・京大機械翻訳】

Impacts of space and surface memory effects on streamer dynamics and flashover characteristics under repetitive submicrosecond pulses in nitrogen

著者 (5件)： Zhao Zheng (School of Electrical Engineering, Xi’an Jiaotong University,Xi’an,China) ,  Li Chenjie (School of Electrical Engineering, Xi’an Jiaotong University,Xi’an,China) ,  Huang Zongze (School of Electrical Engineering, Xi’an Jiaotong University,Xi’an,China) ,  Xu Kaihong (School of Electrical Engineering, Xi’an Jiaotong University,Xi’an,China) ,  Li Jiangtao (School of Electrical Engineering, Xi’an Jiaotong University,Xi’an,China)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2020  号： ICHVE  ページ： 1-4  発行年： 2020年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 反復パルス下での表面絶縁能力の減少は,放電物理効果のさらなる増強を著しく妨げるが,反復パルス下の表面フラッシュオーバの基本的機構は不明のままである。表面ストリーマの特性と反復サブマイクロ秒パルス下の記憶効果の影響力のあるメカニズムを調べた。開始モーメントとその後の正の表面ストリーマの伝播速度はパルス繰返し周波数の増加と共に減少する。フラッシュオーバ前のパルスの数の包絡曲線はガスギャップ破壊と類似している。表面ストリーマの始まりと伝搬に及ぼす空間と表面記憶効果の影響を,反復サブマイクロ秒パルスと高圧窒素に対して論じた。Copyright 2021 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *窒素 ,  *パルス ,  *フラッシュオーバ ,  *ストリーマ ,  エンベロープ ,  モーメント ,  記憶効果
準シソーラス用語： 繰返し周波数 ,  伝搬速度 ,  マイクロ秒 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 図形・画像処理一般  (JE04010I)

タイトルに関連する用語 (9件)： 窒素 ,  反復 ,  サブ ,  マイクロ秒 ,  パルス ,  ストリーマ ,  動力学 ,  フラッシュオーバ ,  記憶効果