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J-GLOBAL ID：202102239786713801   整理番号：21A0276055

GIXRFとXRR測定の組み合わせのためのX線回折システムの再フィッティング【JST・京大機械翻訳】

Refitting an X-ray diffraction system for combined GIXRF and XRR measurements

著者 (4件)： Ingerle Dieter (TU Wien, Atominstitut, Vienna , Austria) ,  Artner Werner (TU Wien, X-Ray Center, Vienna , Austria) ,  Hradil Klaudia (TU Wien, X-Ray Center, Vienna , Austria) ,  Streli Christina (TU Wien, Atominstitut, Vienna , Austria)
資料名： Powder Diffraction  (Powder Diffraction)
巻： 35  号： S1  ページ： S29-S33  発行年： 2020年 
JST資料番号： T0527A  ISSN： 0885-7156  CODEN： PODIE2  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 市販のEmpyrean X線回折計を,X線反射率(XRR)測定と組み合わせたすれすれ入射X線蛍光分析(GIXRF)測定に適用した。エネルギー分散シリコンドリフト検出器を搭載し,Empyreanの角度依存性データ収集に統合した。異なるモノクロメータ/X線光学ユニットを,原子内GIXRF+XRR分光計により得られた値と比較した。データ評価は,JGIXAにより行い,GIXRF+XRRデータフィッティングを組み合わせた特別なソフトウェアである。シリコン基板上のλ>50nmニッケル層からなる試料を用いて,入射ビーム光学の性能基準(すなわち発散と強度)を比較した。Empyrean X線回折計は,GIXRFとXRRデータの両方を測定するのに成功した。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *X線回折 ,  薄膜 ,  モノクロメータ ,  蛍光X線分析 ,  ビーム光学 ,  ソフトウェア ,  分光計 ,  データ収集 ,  角度依存性 ,  すれすれ入射 ,  エネルギー散逸
準シソーラス用語： シリコンウエハ ,  X線反射率 ,  回折計 ,  X線光学 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： GIXRF ,  XRR ,  薄膜特性評価 ,  X線光学

分類 (3件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  X線回折法  (BK01020I)

タイトルに関連する用語 (3件)： 組み合わせ ,  X線回折 ,  フィッティング