文献
J-GLOBAL ID:202102239860846250   整理番号:21A2170991

温度センシングのためのシリコン,ダイヤモンドおよびGaNにおけるマイクロリングのフォトニックおよび熱的モデリング【JST・京大機械翻訳】

Photonic and Thermal Modelling of Microrings in Silicon, Diamond and GaN for Temperature Sensing
著者 (8件):
資料名:
巻: 10  号:ページ: 934  発行年: 2020年 
JST資料番号: U7252A  ISSN: 2079-4991  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: スイス (CHE)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
ミクロ,ナノおよび量子技術のさらなる新興分野での繊細なプロセスの制御における安定化は,高い熱および空間分解能で温度および温度の流れを測定する適切なデバイスを必要とする。本研究では,種々の材料(シリコン,ダイヤモンドおよび窒化ガリウム)で作られた光マイクロリング共振器(ORR)を設計し,いくつかの有限要素法を用いてそれらの温度挙動をシミュレーションした。設計したデバイスの共振周波数とその温度誘起シフト(16.8pm K1,シリコンの68.2pm K1,GaNの30.4pm K1)を予測した。さらに,温度測定の精度に及ぼす二光子吸収(TPA)および関連する自己加熱の影響を解析した。その結果,固有TPAプロセスの不在により,共鳴における自己加熱は,シリコンよりもダイヤモンドおよびGaNにおいて,閾値強度I_th=/,および線形および二次吸収係数で,それぞれ,より重要でないことを示した。Copyright 2021 The Author(s) All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (4件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
光集積回路,集積光学  ,  光デバイス一般  ,  その他の光伝送素子  ,  固体デバイス製造技術一般 
引用文献 (59件):
  • Bolton, H. Evolution of the Thermometer, 1592-1743; The Chemical Publishing Co.: Easton, PA, USA, 1900.
  • Price, R. The Platinum Resistance Thermometer. Platin. Met. Rev. 1959.
  • Brites, C.D.; Lima, P.P.; Silva, N.J.; Millán, A.; Amaral, V.S.; Palacio, F.; Carlos, L.D. Thermometry at the nanoscale. Nanoscale 2012, 4, 4799-4829.
  • Klimov, N.; Purdy, T.; Ahmed, Z. Towards replacing resistance thermometry with photonic thermometry. Sens. Actuators Phys. 2018, 269, 308-312.
  • Ahmed, Z.; Klimov, N.N.; Purdy, T.; Herman, T.; Douglass, K.O.; Fitzgerald, R.P.; Kundagrami, R. Photonic thermometry: Upending 100 year-old paradigm in temperature metrology. In Silicon Photonics XIV; Reed, G.T., Knights, A.P., Eds.; SPIE: Bellingham, WA, USA, 2019; p. 19.
もっと見る

前のページに戻る