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J-GLOBAL ID：202102244176031946   整理番号：21A2350655

化学浴堆積法により堆積した[M(8-HQ)_2(H_2O)_2]{M=Ni(II),Co(II)}薄膜の構造および光学特性【JST・京大機械翻訳】

Structural and optical proprieties of [M(8-HQ)₂(H₂O)₂] {M = Ni(II), Co(II)} thin films deposed by chemical bath deposition method

著者 (9件)： Mamine Hadjer (Laboratory of Water Treatment and Valorization of Industrial Wastes, Badji-Mokhtar University, Annaba, Algeria) ,  Bendjeffal Hacene (Laboratory of Water Treatment and Valorization of Industrial Wastes, Badji-Mokhtar University, Annaba, Algeria) ,  Bendjeffal Hacene (Higher School of Technological Education, ENSET, Skikda, Algeria) ,  Djebli Abdelkrim (Centre de Recherche Scientifique et Technique en Analyses Physico-Chimiques (CRAPC), Tipaza, Algeria) ,  Metidji Toufek (Laboratory of Water Treatment and Valorization of Industrial Wastes, Badji-Mokhtar University, Annaba, Algeria) ,  Marchivie Mathieu (CMCB, CNRS, Universite de Bordeaux, Pessac, France) ,  Chastanet Guillaume (CMCB, CNRS, Universite de Bordeaux, Pessac, France) ,  Rebbani Nacer (Laboratory of Water Treatment and Valorization of Industrial Wastes, Badji-Mokhtar University, Annaba, Algeria) ,  Bouhedja Yacine (Laboratory of Water Treatment and Valorization of Industrial Wastes, Badji-Mokhtar University, Annaba, Algeria)
資料名： Inorganic and Nano-Metal Chemistry  (Inorganic and Nano-Metal Chemistry)
巻： 50  号： 5  ページ： 374-381  発行年： 2020年 
JST資料番号： W5880A  ISSN： 2470-1556  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究の目的は,化学浴析出(CBD)法を用いて,ガラス基板上への8-ヒドロキシキノリン(8-HQ)コバルト(II)とニッケル(II)錯体の薄膜の堆積であった。堆積実験を,溶液温度(25°C~55°C),媒体pH(1~6),金属:配位子モル化学量論比(1:1~1:3),浸漬時間(範囲10~60分)のようないくつかの物理化学的因子の影響下で行った。得られた薄膜を,多くの分析法(UV-Vis分光法,赤外分光光度法,光学顕微鏡,走査電子顕微鏡,およびX線回折)を用いて特性評価した。得られた薄膜の光学的性質の研究から,錯体[Ni(8-HQ)_2(H_2O)_2]と[Co(8-HQ)_2(H_2O)_2]は,HOMOとLUMOの間のπ-π*またはn-π*電子遷移に対応するUV領域で,4.1と4.4eVの範囲のギャップエネルギーで強い吸収を有することが分かった。光学測定の見地から,[Ni(8-HQ)_2(H_2O)_2]と[Co(8-HQ)_2(H_2O)_2]錯体は半導体と考えられる。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  *光学的性質 ,  走査電子顕微鏡 ,  電子遷移 ,  *薄膜 ,  半導体 ,  光学的測定 ,  光学顕微鏡 ,  赤外分光分析 ,  化学量論 ,  媒質 ,  HOMO ,  LUMO
準シソーラス用語： *化学浴析出 ,  ガラス基板 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (7件)： 錯体 ,  Co(II) ,  Ni(II) ,  8-HQ ,  薄膜 ,  構造 ,  光学特性

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z)

タイトルに関連する用語 (5件)： 化学浴堆積 ,  堆積 ,  CO ,  薄膜 ,  光学特性