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J-GLOBAL ID：202102246769701062   整理番号：21A2520576

光触媒CO_2還元の高選択性と活性に及ぼすCu_3SnS_4中のS空孔の影響【JST・京大機械翻訳】

Effect of S vacancy in Cu₃SnS₄ on high selectivity and activity of photocatalytic CO₂ reduction

著者 (10件)： Wang Junyan (School of Environmental Science and Engineering, Tianjin University, Tianjin, 300350, China) ,  Bo Tingting (School of Science, Tianjin University, Tianjin, 300350, China) ,  Shao Boyu (School of Environmental Science and Engineering, Tianjin University, Tianjin, 300350, China) ,  Zhang Yizhong (School of Environmental Science and Engineering, Tianjin University, Tianjin, 300350, China) ,  Jia Lixia (School of Environmental Science and Engineering, Tianjin University, Tianjin, 300350, China) ,  Tan Xin (School of Environmental Science and Engineering, Tianjin University, Tianjin, 300350, China) ,  Tan Xin (School of Science, Tibet University, Lhasa, 850000, China) ,  Zhou Wei (School of Science, Tianjin University, Tianjin, 300350, China) ,  Yu Tao (School of Chemical Engineering and Technology, Tianjin University, Tianjin, 300350, China) ,  Yu Tao (TJU-NIMS International Collaboration Laboratory, School of Materials Science and Engineering, Tianjin University, Tianjin, 300072, China)
資料名： Applied Catalysis. B: Environmental  (Applied Catalysis. B: Environmental)
巻： 297  ページ： Null  発行年： 2021年 
JST資料番号： W0375A  ISSN： 0926-3373  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,S空孔を有するCu_3SnS_4とCu(I/II)とSn(II/IV)の異なる比率を,光触媒CO_2還元のために,高選択性と活性で設計した。Cu_3SnS_4のSn(II)5p軌道によって支配された伝導バンド(CB)位置はSn(II)の含有量を制御することで制御できた。結晶格子中のCu(I)とSn(IV)は,密度汎関数理論(DFT)計算によって実証されたように,CO_2とH_2Oの吸着サイトとして作用し,一方,Cu(I)は,COへの強い吸着能力を有し,それは,CH_4生成(CO_2→COOH≡CO≡CH_2O≡CH_3O≡CH_4)のための更なるプロトン化に役立った。S空孔はCu(I)とSn(II)の外観をもたらし,電子-正孔再結合を成功裏に抑制し,反応性(CH_4は22.65μmol/g/h)と選択性(CH_483.10%)を改善することができた。本研究は,還元能力と選択性を増すためにCB位置を調整するための空孔と元素を制御することによる合成方法に光を当てる。Copyright 2021 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： プロトン化 ,  伝導バンド ,  結晶格子 ,  還元性 ,  密度汎関数法 ,  *光触媒
準シソーラス用語： 吸着サイト ,  吸着能力 ,  電子-正孔再結合 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 光触媒CO_2還元 ,  S空孔 ,  Cu_3SnS_4 ,  密度汎関数理論 ,  CH_4

分類 (2件)： 有害ガス処理法  (SC04030H) ,  その他の触媒  (CB06123Z)

タイトルに関連する用語 (5件)： 光触媒 ,  還元 ,  高選択性 ,  活性 ,  空孔