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J-GLOBAL ID：202102247274029574   整理番号：21A0333011

会員企業の製品・技術紹介 減光が要らない新しい高出力レーザ用ビームプロファイラBPFシリーズ

著者 (1件)： 常包正樹 (カナレ電気)
資料名： レーザ協会誌  (LASER)
巻： 45  号： 2  ページ： 6-10  発行年： 2020年10月31日 
JST資料番号： L4200A  ISSN： 0916-7277  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ・出力レーザ光源を開発あるいは装置に組み込んで取り扱う上で,最も重要な評価項目の1つがビームの光強度分布。
・光強度分布(ビームプロファイル)は,レーザ光源から出射されるビーム形状,ビーム径の測定だけでなく,レンズによる集光などにも必要不可欠な測定装置。
・通常のCMOSセンサを用いたカメラ式であるビームプロファイラでは,NDフィルタなどによる減光が必要不可欠であることなどが問題。
・これを解決するために,減光が要らない新しい高出力レーザ用ビームプロファイラを開発。
・開発したビームプロファイラBPFシリーズについて,測定原理と特長などを説明。
・測定波長帯域,吸収飽和強度,光損傷閾値,パルスレーザに対するデータ蓄積などを改善。

シソーラス用語： *高出力レーザ ,  光減衰 ,  *レーザビーム ,  *ビームモニタリング ,  空間分布 ,  パルスレーザ ,  光源 ,  フィルタ ,  計測器 ,  評価基準 ,  カメラ
準シソーラス用語： *ビームプロファイル ,  ビーム品質 ,  レーザー光源 ,  強度分布 ,  減光 ,  測定原理

分類 (1件)： レーザ一般  (BD04030T)

引用文献 (8件)：

• Ophir社 BeamGage User Guide English,No.50220-001 (2/19/2019).
• Ophir社 High Power NanoScan Addendum, No.50252-001 (6/13/2012).
• PRIMES社 FocusMonitor FM+ Operating Manual (03/2018 EN).
• Ophir社 BeamWatch User Guide, No.50364-001 (24-Apr-19).
• Masaki Tsunekane, et al. : Direct, real-time, high-resolution beam profiler for high-power laser, Proc. of SPIE Vol. 11273 1127307-6(2 March 2020).

タイトルに関連する用語 (7件)： 会員 ,  企業 ,  減光 ,  高出力レーザ ,  ビーム ,  プロファイラ ,  BPF