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J-GLOBAL ID：202102247849043095   整理番号：21A0696306

反応性ガス雰囲気下中性クラスタービーム照射による金属エッチング

Metal etching by neutral cluster beam irradiation in reactive gas

著者 (2件)： 太田崚樹 (兵庫県大 大学院工学研究科) ,  豊田紀章 (兵庫県大 大学院工学研究科)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 81st  ページ： ROMBUNNO.8p-Z25-13  発行年： 2020年08月26日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 1.はじめに.近年,原子レベルの加工技術として原子層エッチング(ALE)が注目されている。ALEは反応性分子の吸着、残留ガス除去,変質層除去を繰り返し行って原子レベルの加工を行う。一般に変質層除去にはプラズマ照射や熱プロセスが用いられるが,...【本文一部表示】

シソーラス用語： イオンビーム ,  *エッチング ,  酸化 ,  酸素 ,  ニッケル ,  酸化膜 ,  金属薄膜 ,  残留ガス ,  スループット ,  X線光電子分光法 ,  全エネルギー ,  基板温度 ,  プラズマ曝露 ,  *クラスタビーム ,  脂肪酸 ,  薬物

分類 (2件)： 電子ビーム・イオンビームの応用  (BD02070X) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (1件)： 酢酸

タイトルに関連する用語 (5件)： 反応性 ,  ガス雰囲気 ,  中性クラスター ,  ビーム ,  エッチング