文献
J-GLOBAL ID:202102251022045866   整理番号:21A1146117

次世代ウエハレベルパッケージング応用のための新しい表面仕上げ【JST・京大機械翻訳】

Novel Surface Finish for Next Generation Wafer Level Packaging Applications
著者 (1件):
資料名:
巻: 2020  号: IWLPC  ページ: 01-08  発行年: 2020年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
半導体産業におけるウエハレベル包装(WLP)は,特に,IOT,高速/移動性,センサ,ウェアラブル,自動車および他の重要な応用の分野で,成長を続けている。これらの市場からの製品の要求は,より小さなフットプリントを含み,最適に電気的に,費用対効果が高く,信頼性が高い。WLP材料/化学は,半導体製造者,OEMsが最良の性能を達成するために,これらの要求を達成する上で重要な部品である。最も重要な材料の1つは,相互接続統合をサポートするための銅の特徴上の表面仕上げを含む。高周波,高密度次世代WLP応用に対する表面仕上げの選択基準は,最小挿入損失,長いシェルフライフ,コスト効率および高信頼性を含む。市場で利用可能なオプション(ImAg,EPIG,EPAG,DIG,OSPなど)はほとんどない。しかし,次世代アプリケーションに対するすべての要求を満足させる懸念がある。最外の金層で仕上げた銅接触をコートするために設計された,専用のナノ工学バリアを含む革新的ニッケル無しアプローチは,同時性を超える優れた利点を示した。信頼性試験結果を,新しい表面仕上げの性能利点を比較して考察した。Copyright 2021 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
図形・画像処理一般 
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る