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J-GLOBAL ID:202102252507170730   整理番号:21A2341141

Connolly溶媒排除分子表面の本質的に滑らかな離散化【JST・京大機械翻訳】

Intrinsically smooth discretisation of Connolly’s solvent-excluded molecular surface
著者 (4件):
資料名:
巻: 118  号:ページ: e1644384  発行年: 2020年 
JST資料番号: E0336A  ISSN: 0026-8976  CODEN: MOPHAM  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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van der Waals空洞表面の本質的に滑らかな離散化のためのスイッチング/Gaussia(SWIG)アルゴリズムを,陰的溶媒和モデリングで使用するために,溶媒排除表面(SES)の場合に拡張した。分極可能な連続体モデル(PCM)と結合して,SES-SWIG離散化は,核座標に関して滑らかに変化する連続体静電を与え,それらの座標に関して解析的に微分可能な溶媒和エネルギーを有する。SESが望ましい空洞構造であるならば,PCM+SES-SWIG法は,Poisson方程式の三次元,有限差分解に対する効率的,境界要素代替を表す。ここで紹介したアルゴリズムは,SESが構築され,迅速かつ容易に離散化され,その解析的に微分可能な形式が,解析的勾配の導出の道を開く。GRAPHICAL ABSTRACT:Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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溶液論一般 
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