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J-GLOBAL ID：202102252594929356   整理番号：21A3063659

フェムト秒投影二光子リソグラフィー中の光重合の反応拡散モデリング【JST・京大機械翻訳】

Reaction-Diffusion Modeling of Photopolymerization During Femtosecond Projection Two-Photon Lithography

著者 (2件)： Pingali Rushil (G.W. Woodruff School of Mechanical Engineering, Georgia Institute of Technology, Atlanta, GA 30332) ,  Saha Sourabh K. (G.W. Woodruff School of Mechanical Engineering, Georgia Institute of Technology, Atlanta, GA 30332)
資料名： Journal of Manufacturing Science and Engineering  (Journal of Manufacturing Science and Engineering)
巻： 144  号： 2  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： C0657A  ISSN： 1087-1357  CODEN： JMSEFK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 2光子リソグラフィー(TPL)は,サブミクロンの特徴を有する任意に複雑な三次元(3D)構造を作製することができる重合ベースの直接レーザ書き込みプロセスである。従来のTPL技術は,遅いポイントごとのシリアル書き込み方式のために,限られたスケーラビリティを持つ。フェムト秒投影TPL(FP-TPL)技術は,層ごとの並列化を可能にすることにより,印刷速度を1000倍増加させる。しかし,並列化は,基礎となる重合プロセスの時間と長さスケールを変化させる。したがって,FP-TPL中のプロセス結果を正確に予測するために,連続TPLのモデルを適用することは挑戦的である。この問題を解決するために,FP-TPLに関連する時間と長さスケールに関する重合プロセスの有限要素モデルを作成した。モデルは重合の基礎となる反応拡散機構に基づいている。このモデルを適用して,種々の条件下で印刷されたナノワイヤの形状を予測し,これらの予測を経験的データに対して比較した。本モデルはナノワイヤ幅を正確に予測した。しかし,アスペクト比予測の精度は,光重合体の化学的性質の不確実値によって妨げられる。それにもかかわらず,著者らの結果は,反応拡散モデルがFP-TPLプロセス結果に及ぼす制御可能パラメータの影響を正確に捉え,従ってプロセス制御と最適化に使用できることを示した。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *光子 ,  最適化 ,  シミュレーション ,  不確実性 ,  プロセス制御 ,  *光重合 ,  *重合 ,  *リソグラフィー ,  感光性高分子 ,  三次元 ,  ナノワイヤ

著者キーワード (9件)： 多光子重合 ,  直接レーザ書込み ,  3D印刷 ,  付加製造 ,  ナノ製造 ,  レーザプロセス ,  マイクロおよびナノ加工と加工 ,  モデリングとシミュレーション ,  ラピッドプロトタイピングと固体自由形状製作

分類 (5件)： 切削一般  (QC02010V) ,  特殊成形  (WC04040W) ,  圧延技術  (WC06030Z) ,  その他の成形  (YH04090Q) ,  研削  (QC03000R)

タイトルに関連する用語 (6件)： フェムト秒 ,  投影 ,  二光子 ,  リソグラフィー ,  光重合 ,  拡散モデリング