文献

J-GLOBAL ID：202102252622750501   整理番号：21A0031606

ラセミ第三C-H結合のエナンチオ収束アミノ化【JST・京大機械翻訳】

Enantioconvergent Amination of Racemic Tertiary C-H Bonds

著者 (4件)： Lang Kai (Department of Chemistry, Merkert Chemistry Center, Boston College, Massachusetts, United States) ,  Li Chaoqun (Department of Chemistry, University of South Florida, Florida, United States) ,  Kim Isaac (Department of Chemistry, Merkert Chemistry Center, Boston College, Massachusetts, United States) ,  Zhang X. Peter (Department of Chemistry, Merkert Chemistry Center, Boston College, Massachusetts, United States)
資料名： Journal of the American Chemical Society  (Journal of the American Chemical Society)
巻： 142  号： 49  ページ： 20902-20911  発行年： 2020年 
JST資料番号： C0254A  ISSN： 0002-7863  CODEN： JACSAT  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ラセミ化は,光学活性三級C-H結合の従来のラジカルハロゲン化反応において見られるように,フリーラジカル化学の固有立体化学的特徴であると考えられる。ラジカルラセミ化の容易なプロセスがエナンチオ選択的様式で結合形成の次の段階と効果的に組み合わせるならば,第四立体中心を有するキラル分子の立体選択的構築のためのラセミ三級C-H結合の脱ラセミ化官能化を引き起こすであろう。ラジカル化学におけるこのユニークな可能性の実証として,金属ラジカル触媒反応が,ラセミ三級C-(sp3)-H結合のエナンチオ収束ラジカルアミノ化のためのCo-(II)系触媒系の考案に成功裏に適用できることを報告する。ラジカルプロセスの成功への鍵は,担持配位子としてD_2-対称キラルアミドポルフィリンの立体的,電子的およびキラル環境をフィッティングするCo-(II)系メタロラジカル触媒の開発である。最適反応温度の存在は,エナンチオ収束ラジカルプロセスの実現における重要因子として認識されている。最適化したキラル配位子によって支持されて,Co-(II)ベースのメタロラジカル系は,最適温度でラセミ第三C-(sp3)-H結合のエナンチオ収束1,6-アミノ化を効果的に触媒することができ,キラルα-第三アミンを,新規に生成した四級立体中心の高いエナンチオ制御で優れた収率で与えた。モデル系として光学活性重水素標識C-H基質を利用する実験を含む系統的研究は,エナンチオ収束ラジカルC-Hアミノ化のためのこの新規触媒プロセスの根底にある機構の詳細に光を当てた。二環N-複素環の立体選択的構築で示すように,ユビキタスC-H結合から複数の機能性を有する四級立体中心を生成する顕著なパワーは,この新規ラジカル技術の将来の合成応用の doorを開く。Copyright 2021 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 最適化 ,  対称性 ,  ラジカル ,  *アミノ化 ,  ラセミ化 ,  ハロゲン化 ,  基質 ,  光学活性 ,  官能化 ,  反応温度 ,  不斉配位子
準シソーラス用語： キラリティ ,  立体中心 ,  脱ラセミ化 ,  結合形成 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 付加反応,脱離反応  (CF02030M) ,  アルケン  (CF03030T) ,  反応の立体化学  (CF02130V)

タイトルに関連する用語 (3件)： C-H結合 ,  収束 ,  アミノ化