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J-GLOBAL ID：202102254125608971   整理番号：21A2385977

NiO薄膜と蛍光ヒト細胞におけるカオス系により駆動された逐次光損傷【JST・京大機械翻訳】

Sequential Photodamage Driven by Chaotic Systems in NiO Thin Films and Fluorescent Human Cells

著者 (6件)： Martines-Arano Hilario (Seccion de Estudios de Posgrado e Investigacion, Escuela Superior de Ingenieria Mecanica y Electrica Unidad Zacatenco, Instituto Politecnico Nacional, 07738 Ciudad de Mexico, Mexico) ,  Vidales-Hurtado Monica Araceli (Centro de Investigacion en Ciencia Aplicada y Tecnologia Avanzada Unidad Queretaro, Instituto Politecnico Nacional, Santiago de Queretaro, 76090 Queretaro, Mexico) ,  Palacios-Barreto Samara (Departamento de Microbiologia, Escuela Nacional de Ciencias Biologicas, Instituto Politecnico Nacional, 11340 Ciudad de Mexico, Mexico) ,  Trejo-Valdez Martin (Escuela Superior de Ingenieria Quimica e Industrias Extractivas, Instituto Politecnico Nacional, 07738 Ciudad de Mexico, Mexico) ,  Garcia-Perez Blanca Estela (Departamento de Microbiologia, Escuela Nacional de Ciencias Biologicas, Instituto Politecnico Nacional, 11340 Ciudad de Mexico, Mexico) ,  Torres-Torres Carlos (Seccion de Estudios de Posgrado e Investigacion, Escuela Superior de Ingenieria Mecanica y Electrica Unidad Zacatenco, Instituto Politecnico Nacional, 07738 Ciudad de Mexico, Mexico)
資料名： Processes (Web)  (Processes (Web))
巻： 8  号： 11  ページ： 1377  発行年： 2020年 
JST資料番号： U7264A  ISSN： 2227-9717  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： カオス電子変調によるセンサのフィードバックにより支援されたレーザアブレーションプロセスを報告した。同期双安定論理回路をレーザ加工技術におけるスイッチング光信号に対して解析した。T型フリップフロップ配置の出力をNiO膜の光損傷に用いた。アブレーション閾値に含まれる多光子効果をベクトル2波混合法により評価した。532nmの波長でのナノ秒照射下での屈折率の非線形性の原因となる主要な物理的機構として光誘起熱現象を同定した。高度に透明なヒト細胞を破壊するための比較実験を行った。生物医学的光熱プロセスのための即時応用によるレーザ誘起制御爆発をもたらす階層的機能を開発するための潜在的応用を,テンプレート化することができた。Copyright 2021 The Author(s) All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 屈折率 ,  *蛍光 ,  *薄膜 ,  ベクトル ,  レーザ加工 ,  論理回路 ,  波長 ,  ヒト ,  双安定回路 ,  光信号 ,  双安定性 ,  アブレーション ,  *カオス ,  レーザアブレーション
準シソーラス用語： レーザ誘起 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (8件)： レーザアブレーション ,  光Kerr効果 ,  二波混合 ,  光損傷 ,  半導体加工 ,  NiO ,  薄膜 ,  ヒト細胞

分類 (1件)： レーザ照射・損傷  (BK16040S)

引用文献 (50件)：

• He, Y.; Zhang, J.; Singh, S.; Garcell, E.; Vorobyev, A.Y.; Lam, B.; Zhan, Z.; Yang, J.; Guo, C. Maskless laser nano-lithography of glass through sequential activation of multi-threshold ablation. Appl. Phys. Lett. 2019, 114, 133107.
• Hua, J.G.; Ren, H.; Jia, A.; Tian, Z.N.; Wang, L.; Juodkazis, S.; Chen, Q.D.; Sun, H.B. Convex silica microlens arrays via femtosecond laser writing. Opt. Lett. 2020, 45, 636-639.
• Jalil, S.A.; Lai, B.; ElKabbash, M.; Zhang, J.; Garcell, E.M.; Singh, S.; Guo, C. Spectral absorption control of femtosecond laser-treated metals and application in solar-thermal devices. Light Sci. Appl. 2020, 9, 14.
• Zhou, L.; Jiang, Y.; Zhang, P.; Wei, H.; Fan, W.; Li, X.; Zhu, J. Numerical and Experimental Investigation of Morphological Modification on Fused Silica Using CO2 Laser Ablation. Materials 2019, 12, 4109.
• Müller, D.W.; Fox, T.; Grützmacher, P.G.; Suarez, S.; Mücklich, F. Applying Ultrashort Pulsed Direct Laser Interference Patterning for Functional Surfaces. Sci. Rep. 2020, 10, 3647.

タイトルに関連する用語 (7件)： 薄膜 ,  蛍光 ,  ヒト ,  細胞 ,  カオス系 ,  逐次 ,  光損傷