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J-GLOBAL ID:202102254175597550   整理番号:21A2110789

希ガス化合物の最初の報告後の半世紀以上の希ガス化学【JST・京大機械翻訳】

Noble-Gas Chemistry More than Half a Century after the First Report of the Noble-Gas Compound
著者 (1件):
資料名:
巻: 25  号: 13  ページ: 3014  発行年: 2020年 
JST資料番号: U7014A  ISSN: 1420-3049  CODEN: MOLEFW  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 文献レビュー  発行国: スイス (CHE)  言語: 英語 (EN)
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希ガス化合物の合成およびキャラクタリゼーションにおける最近の開発,すなわち2017年以降発行された出版物に重点を置いて,過去5年間報告された希ガス化学をレビューした。XeF2は商業的に利用可能であり,実験室使用と産業の両方でより広い実用化がある。配位子として,[M(XeF_2)_x]n+塩をもたらす金属中心に配位できる。強いLewis酸で,XeF_2はフッ化物イオンドナーとして作用し,[XeF]+または[Xe_2F_3]+塩を形成する。Latest例は[Xe2F3][RuF6]XeF2,[Xe2F3][RuF6]および[Xe2F3][IrF6]である。付加物NgF2CrOF4とNgF22CrOF4(Ng=Xe,Kr)を合成し,低温で構造的に特性化した。XeF6の幾何学を固体アルゴンとネオンマトリックスで研究した。キセノンヘキサフルオリドはよく知られたフッ化物イオンドナーであり,種々の[XeF_5]+と[Xe_2F_11]+塩を形成する。以前に知られている,または,新しい[XeF_5]+と[Xe_2F_11]+塩の多数の結晶構造,すなわち,[Xe_2F_11][SbF_6],[XeF_5][Sb_2F_11],[XeF_5][TiF_5],[XeF_5][Ti_3F_5],[XeF_5]_2[Xその極端な感度にもかかわらず,多くの新しいXeO_3付加物,すなわち,XeO_3の15-クラウン付加物,トリフェニルホスフィンオキシドとのXeO_3の付加物,ジメチルスルホキシドとピリジン-N-オキシド,およびXeO_3とN-塩基(ピリジンと4-ジメチルアミノピリジン)の間の付加物を合成した。[Hg(KrF_2)_8][AsF_6]22HFはKrF_2が配位子として働く化合物の新しい例である。希ガスの多くの新しい荷電種(ArCH2+,ArOH+,[ArB_3O_4]+,[ArB_3O_5]+,[ArB_4O_6]+,[ArB_5O_7]+,[B_12(CN)_11Ne]を報告した。分子イオンHeH+は最終的に星間空間で検出された。高圧でのNa_2HeとArNiの発見を報告した。希ガス化合物の結合モチーフを,本レビューの最後のパラグラフで簡単にコメントした。Copyright 2021 The Author(s) All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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白金族元素の錯体 
物質索引 (1件):
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引用文献 (79件):
  • Christe, K.O. A renaissance in noble gas chemistry. Angew. Chem. Int. Ed. 2001, 40, 1419-1421.
  • Grandinetti, F. Noble Gas Chemistry, Structure, Bonding and Gas-Phase Chemistry, 1st ed.; Wiley-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA: Weinheim, Germany, 2018.
  • Haner, J.; Schrobilgen, G.J. The chemistry of xenon(IV). Chem. Rev. 2015, 115, 1255-1295.
  • Nabiev, S.S.; Sokolov, V.B.; Chaivanov, B.B. Molecular and crystal structures of noble gas compounds. Russ. Chem. Rev. 2014, 83, 1135-1180.
  • Brock, D.S.; Schrobilgen, G.J.; Žemva, B. Noble-Gas Chemistry. In Comprehensive Inorganic Chemistry II, 2nd ed.; Reedijk, J., Poeppelmeier, K., Eds.; Elsevier B.V.: Amsterdam, The Netherlands, 2013; Volume 1, pp. 755-822.
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