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J-GLOBAL ID：202102254993845242   整理番号：21A2169950

シリコン-金属フッ化物反応性複合材料の調製とキャラクタリゼーション【JST・京大機械翻訳】

Preparation and Characterization of Silicon-Metal Fluoride Reactive Composites

著者 (4件)： Valluri Siva Kumar (O.H. York Department of Chemical and Materials Engineering, New Jersey Institute of Technology, Newark, NJ 07102, USA) ,  Schoenitz Mirko (O.H. York Department of Chemical and Materials Engineering, New Jersey Institute of Technology, Newark, NJ 07102, USA) ,  Dreizin Edward (O.H. York Department of Chemical and Materials Engineering, New Jersey Institute of Technology, Newark, NJ 07102, USA) ,  Dreizin Edward (High-Energy and Special Materials Research Laboratory, Tomsk State University, 634050 Tomsk, Russia)
資料名： Nanomaterials (Web)  (Nanomaterials (Web))
巻： 10  号： 12  ページ： 2367  発行年： 2020年 
JST資料番号： U7252A  ISSN： 2079-4991  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 元素Siと金属フッ化物酸化剤BiF_3およびCoF_2を組み合わせた燃料リッチ複合粉末を,反応性粉砕を停止することによって調製した。複合粉末の反応性を不活性(Ar)および酸化(Ar/O_2)環境の両方における熱分析測定を用いて評価した。粉末は電気的加熱フィラメントを用いて着火した。粒子燃焼実験を,着火源としてCO_2レーザを用いて,室温で行った。両複合材料は酸化環境で加熱するとSiの加速酸化を示し,加熱フィラメントを用いて容易に着火した。参照として用いた元素Siは,同じ条件下で加熱すると顕著な酸化を示さず,加熱フィラメントまたはレーザを用いて着火できなかった。BiF_3を有する複合材料では,低温Siフッ化物形成と酸化が観察された。また,これらの複合粉末の着火温度も低かった。粒子燃焼実験はSi/BiF_3複合材料で成功した。測定した粒子燃焼時間の統計的分布は測定した粒度分布と相関し,それらの燃焼時間に及ぼす粒子サイズの影響を確立した。測定した燃焼時間はAlとBを燃料とする類似の複合材料で測定した値に近かった。Copyright 2021 The Author(s) All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 酸化 ,  低温 ,  複合材料 ,  粉体 ,  粒度分布 ,  アルミニウム ,  *ケイ素 ,  電気加熱 ,  熱分析 ,  *フッ化物 ,  着火点 ,  フィラメント ,  酸化環境 ,  燃焼試験
準シソーラス用語： 燃焼時間 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 反応性材料 ,  ナノ複合材料 ,  金属燃焼 ,  点火 ,  熱分析

分類 (3件)： 燃焼一般  (XE04010W) ,  各種爆薬と推薬  (YE06020W) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

引用文献 (34件)：

• Koch, E.; Clément, D. Special Materials in Pyrotechnics: VI. Silicon-An Old Fuel with New Perspectives. Propellants Explos. Pyrotech. 2007, 32, 205-212.
• Yaroshevsky, A.A. Abundances of chemical elements in the Earth’s crust. Geochem. Int. 2006, 44, 48-55.
• Gelain, C.; Cassuto, A.; Le Goff, P. Kinetics and mechanism of low-pressure, high-temperature oxidation of silicon-II. Oxid. Met. 1971, 3, 139-151.
• Rugunanan, R.A.; Brown, M.E. Reactions of powdered silicon with some pyrotechnic oxidants. J. Therm. Anal. Calorim. 1991, 37, 1193-1211.
• Deal, B.E.; Grove, A.S. General Relationship for the Thermal Oxidation of Silicon. J. Appl. Phys. 1965, 36, 3770-3778.

タイトルに関連する用語 (6件)： シリコン ,  金属フッ化物 ,  反応性 ,  複合材料 ,  調製 ,  キャラクタリゼーション