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J-GLOBAL ID：202102256183207749   整理番号：21A3314368

可視光照射下での有機汚染物質分解のための粉砕洗浄法によるAgBr/AgSiO_x系光触媒の合成【JST・京大機械翻訳】

Synthesis of AgBr/AgSiO_x based photocatalyst by grinding-washing method for organic pollutant degradation under visible light irradiation

著者 (9件)： Suwanboon Sumetha (Division of Physical Science, Faculty of Science, Prince of Songkla University, Hat-Yai, Songkhla, 90110, Thailand) ,  Randorn Chamnan (Center of Excellence in Materials Science and Technology, Chiang Mai University, Chiang Mai, 50200, Thailand) ,  Leesakul Nararak (Division of Physical Science, Faculty of Science, Prince of Songkla University, Hat-Yai, Songkhla, 90110, Thailand) ,  Leesakul Nararak (Center of Excellence for Innovation in Chemistry, Faculty of Science, Prince of Songkla University, Hat-Yai, Songkhla, 90110, Thailand) ,  Saithong Saowanit (Division of Physical Science, Faculty of Science, Prince of Songkla University, Hat-Yai, Songkhla, 90110, Thailand) ,  Saithong Saowanit (Center of Excellence for Innovation in Chemistry, Faculty of Science, Prince of Songkla University, Hat-Yai, Songkhla, 90110, Thailand) ,  Kaowphong Sulawan (Department of Chemistry and Center of Excellence in Materials Science and Technology, Faculty of Science, Chiang Mai University, Chiang Mai, 50200, Thailand) ,  Amornpitoksuk Pongsaton (Division of Physical Science, Faculty of Science, Prince of Songkla University, Hat-Yai, Songkhla, 90110, Thailand) ,  Amornpitoksuk Pongsaton (Center of Excellence for Innovation in Chemistry, Faculty of Science, Prince of Songkla University, Hat-Yai, Songkhla, 90110, Thailand)
資料名： Materials Science in Semiconductor Processing  (Materials Science in Semiconductor Processing)
巻： 137  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： W1055A  ISSN： 1369-8001  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 湿式化学経路による光触媒の伝統的調製は,エネルギーおよび溶媒消耗として考慮され,スケールアップが困難である。ここでは,AgBr/AgSiO_x系光触媒を調製するための容易な方法を,種々の比率のNaBr:Na_2SiO_3・9H_2OでAgNO_3を粉砕することによって開発した。得られた生成物は,少量の水で洗浄することによって除去された不純物としてNaNO_3を含んだ。得られた複合材料を,X線回折,走査電子顕微鏡,透過型電子顕微鏡,X線光電子分光法,およびUV-vis拡散反射分光法によって特性評価した。AgBr/AgSiO_xの光触媒特性を,可視光照射下での汚染物質モデルとしてローダミンB,反応性オレンジ16およびビスフェノールAの分解により評価した。AgBr/AgSiO_xの光触媒活性は純粋なAgSiO_xおよび純粋なAgBrのそれよりも高く,これは複合材料が電荷分離を生成するII型ヘテロ構造であったためである。トラッピング実験の結果は,スーパーオキシドアニオンラジカルと正孔が光触媒プロセス中の主な反応種であり,3つの汚染物質モデルの分解がエレクトロスプレイイオン化質量分析によって確認されたことを示した。本研究は,高性能廃水処理応用のための高効率光触媒を調製するための簡単な経路を提供した。Copyright 2021 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  正孔 ,  走査電子顕微鏡 ,  不純物 ,  *汚染物質 ,  オレンジ ,  スケールアップ ,  *可視光 ,  *光触媒 ,  電荷分離 ,  スーパーオキシドアニオンラジカル
準シソーラス用語： ヘテロ構造 ,  光触媒活性 ,  *可視光照射 ,  *有機汚染物質 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 固相合成 ,  可視光駆動光触媒 ,  有機化合物の分解 ,  プラズモン光触媒 ,  銀系光触媒

分類 (1件)： 光化学一般  (CB08010U)

タイトルに関連する用語 (7件)： 可視光照射 ,  有機汚染物質 ,  分解 ,  粉砕 ,  洗浄 ,  AgBr ,  光触媒