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J-GLOBAL ID:202102258189721395   整理番号:21A0342084

本質的にミクロポーラスなポリ(エーテル-ケトン)膜の表面工学:平坦からハニカム構造まで【JST・京大機械翻訳】

Surface engineering of intrinsically microporous poly(ether-ether-ketone) membranes: From flat to honeycomb structures
著者 (5件):
資料名:
巻: 621  ページ: Null  発行年: 2021年 
JST資料番号: E0669A  ISSN: 0376-7388  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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高分子膜の表面工学は膜特性に微妙な変化を誘起し,その性能を高めることができる。材料性能を改善するために,多数の膜表面改質法を開発した。しかし,これらの方法は複雑であり,従って,それらの実用化を制限する。ここでは,高分子量(M_w)を制御してハニカム表面を有する膜を作製する簡単な方法を示した。低及び高M_wsを有するスピロビスインダン系本質的にミクロ多孔性ポリ(エーテル-ケトン)(iPEEK-SBI)ホモポリマーを合成し,有機溶媒ナノ濾過(OSN)膜を調製するために用いた。物理的性質,膜形態,およびOSN性能に及ぼす高分子M_wの有意な影響を系統的に研究した。iPEEKは優れた溶液加工性,高いBrunauer-Emmett-Teller表面積,及び顕著な熱安定性を示した。異なるハニカムセルサイズを有するハニカム表面を示す3つの機械的に柔軟なOSN膜を,N-メチル-2-ピロリドン中で27-39wt%の濃度で低M_wsのiPEEK-SBI単独重合体を用いて調製した。対照的に,高いM_wsを有するiPEEK-SBI単独重合体の使用は,平坦な表面を有する膜をもたらした。膜のM_wカットオフは,ドープ溶液濃度を調整することによって408~772gmol-1の範囲で微調整した。M_wカットオフは高分子M_wによって影響されなかったが,低M_wの高分子から誘導した膜は同じドープ溶液濃度で調製した高M_w膜よりも実質的に高い溶媒透過性(18%~26%)を示した。安定な性能は,7日間の連続直交流濾過と膜の6か月熟成にわたって実証された。本研究は,高分子M_wを調整することにより,OSN膜に対する表面工学の重要性を示した。これらの知見は,OSN膜の特性を微調整するための新しい道を開いた。Copyright 2021 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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