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J-GLOBAL ID：202102259998189822   整理番号：21A1774937

パターン形成シリコンマイクロ円錐構造の濡れ特性の研究【JST・京大機械翻訳】

Study of the Wetting Characteristics of Patterned Silicon Micro Conical Structure

著者 (3件)： Park Il Woong (NTNU, Trondheim, Norway) ,  Fernandino Maria (NTNU, Trondheim, Norway) ,  Dorao Carlos Albert (NTNU, Trondheim, Norway)
資料名： ASME Conference Proceedings  (ASME Conference Proceedings)
号： ICNMM2017  ページ： Null  発行年： 2017年 
JST資料番号： A0478C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 表面の濡れ特性を制御することは,大きな課題を示すが,同時に,特定の用途のためにカスタマイズされた表面を設計する可能性を開く。例えば,表面が高い静的接触角と低い接触角ヒステリシスを有する疎水性状態を示すとき,自己洗浄表面を可能にした。本研究では,Siマイクロコーンによるパターン化表面の濡れ特性への影響を調べた。構造と中心間距離の高さが表面の濡れ特性を制御することが観察された。3つの異なる濡れ状態(Cassie-Baxter状態,Wenzel状態,および晴天側状態)と状態間の対応する遷移を観測した。鋭いCassie-Wenzel転移は,表面の面積分率の減少で引き起こされた。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 接触角 ,  *濡れ ,  ヒステリシス ,  円錐 ,  疎水性 ,  晴天 ,  *パターン形成 ,  カスタム化
準シソーラス用語： 自己洗浄 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 固-液界面  (CB12050B)

タイトルに関連する用語 (5件)： パターン形成 ,  シリコン ,  円錐 ,  濡れ ,  研究