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J-GLOBAL ID：202102261820374159   整理番号：21A2383109

スチレン-エチレン-ブタジエン-スチレン(SEBS)共重合体に及ぼす紫外線照射暴露時間の影響【JST・京大機械翻訳】

Influence of Ultraviolet Radiation Exposure Time on Styrene-Ethylene-Butadiene-Styrene (SEBS) Copolymer

著者 (4件)： Garcia-Garcia Daniel ,  Crespo-Amoros Jose Enrique ,  Parres Francisco ,  Samper Maria Dolores
資料名： Polymers (Web)  (Polymers (Web))
巻： 12  号： 4  ページ： 862  発行年： 2020年 
JST資料番号： U7262A  ISSN： 2073-4360  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： スチレン-エチレン-ブタジエン-スチレン(SEBS)に及ぼす紫外線照射の影響を,エージングの機構をより良く理解するために,異なる曝露時間で研究した。高分子材料を機械的に試験し,次にそれらの表面を走査型電子顕微鏡(SEM)と原子間力顕微鏡(AFM)を用いて分析した。さらに,接触角(OCA)の光学解析を用いて,表面エネルギー(s)と黄色化指数(YI)を評価し,減衰全反射赤外分光法(ATRFTIR)を用いて,時効SEBSにおける構造的および物理的変化を観察した。SEBSに対して得られた結果は,曝露期間に関して,表面エネルギーの減少を引き起こす表面変化を示し,従って表面粗さの減少をもたらした。これは機械的性能の低下をもたらし,約200hの暴露時間で引張強度を約50%減少させた。Copyright 2021 The Author(s) All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 時効 ,  接触角 ,  走査電子顕微鏡 ,  表面エネルギー ,  *紫外線照射 ,  表面粗さ ,  引張強さ ,  赤外分光法 ,  原子間力顕微鏡 ,  *SEBS
準シソーラス用語： 高分子材料 ,  曝露時間 ,  減衰全反射 ,  光学解析 ,  機械的性能 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 表面改質 ,  劣化 ,  AFM ,  機械的性質 ,  ブロック共重合体

分類 (3件)： 高分子の分解,劣化  (CG03010A) ,  共重合  (CG04030D) ,  抵抗性  (YH02050K)

引用文献 (63件)：

• Holden, G. Thermoplastic elastomers. In Rubber Technology; Springer: Berlin, Germany, 1987; pp. 465-481.
• Picchioni, F.; Giorgi, I.; Passaglia, E.; Ruggeri, G.; Aglietto, M. Blending of styrene-block-butadiene-block-styrene copolymer with sulfonated vinyl aromatic polymers. Polym. Int. 2001, 50, 714-721.
• Walker, B.M.; Rader, C.P. Handbook of Thermoplastic Elastomers; Van Nostrand Reinhold: New York, NY, USA, 1979.
• Zhu, J.; Birgisson, B.; Kringos, N. Polymer modification of bitumen: Advances and challenges. Eur. Polym. J. 2014, 54, 18-38.
• Švec, P. Styrene-Based Plastics and Their Modification; Ellis Horwood: Hemel Hempstead, UK, 1990.

タイトルに関連する用語 (7件)： スチレン ,  エチレン ,  ブタジエン ,  SEBS ,  共重合体 ,  紫外線照射 ,  暴露