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J-GLOBAL ID：202102262322779708   整理番号：21A0162288

電着NiO薄膜の厚さ,構造及び光学特性【JST・京大機械翻訳】

Thickness, structural and optical properties of electrodeposited NiO thin films

著者 (2件)： Perumal Rajagembu (Division of Physics, Department of Science and Humanities, Saveetha School of Engineering, Saveetha University, Chennai 602 105, Tamil Nadu, India) ,  Thanikaikarasan Sethuramachandran (Division of Physics, Department of Science and Humanities, Saveetha School of Engineering, Saveetha University, Chennai 602 105, Tamil Nadu, India)
資料名： Materials Today: Proceedings  (Materials Today: Proceedings)
巻： 33  号： P7  ページ： 3989-3992  発行年： 2020年 
JST資料番号： W3531A  ISSN： 2214-7853  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 酸化ニッケルは,電気化学,触媒,腐食,スピントロニクス,およびオプトエレクトロニックのような多数の分野に対して興味深い物理的および化学的特性の優れた組み合わせのために,大きな注目を集めている。酸化ニッケルは,いくつかの応用に対して考察した優れた半導体である。本研究では,Tin酸化物基板上への酸化ニッケル薄膜の電気化学析出を行った。重量差の方法を用いて,蒸着膜の厚み値を推定した。構造特性は,蒸着膜が多結晶性を有することを示した。光学特性は,調製した膜が3.32eV付近のバンドギャップ値を有することを示した。Copyright 2021 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  *光学的性質 ,  蒸着膜 ,  *電着 ,  *薄膜 ,  半導体 ,  酸化物 ,  酸化ニッケル ,  多結晶 ,  電気化学 ,  構造特性 ,  バンドギャップ ,  スピントロニクス

著者キーワード (5件)： バンドギャップ ,  電着 ,  NiO ,  薄膜 ,  X線回折

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： 電着 ,  薄膜 ,  厚さ ,  光学特性