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J-GLOBAL ID：202102264525072308   整理番号：21A2437817

エチレンジアミン-N,N′-ジこはく酸修飾光-Fenton系による2,4-ジクロロフェノールの分解:天然水に存在する化学物質の影響【JST・京大機械翻訳】

Degradation of 2,4-Dichlorophenol by Ethylenediamine-N,N′-disuccinic Acid-Modified Photo-Fenton System: Effects of Chemical Compounds Present in Natural Waters

著者 (8件)： Huang Wenyu (School of the Resources, Environment and Materials, Guangxi University, Nanning 530004, China) ,  Huang Wenyu (Guangxi Key Laboratory of Clean Pulp & Papermaking and Pollution Control, Guangxi University, Nanning 530004, China) ,  Huang Wenyu (Guangxi Bossco Environmental Protection Technology Co., Ltd., Nanning 530007, China) ,  Huang Ying (School of the Resources, Environment and Materials, Guangxi University, Nanning 530004, China) ,  Wang Shuangfei (Guangxi Key Laboratory of Clean Pulp & Papermaking and Pollution Control, Guangxi University, Nanning 530004, China) ,  Wang Shuangfei (Guangxi Bossco Environmental Protection Technology Co., Ltd., Nanning 530007, China) ,  Lin Hongfei (Guangxi Bossco Environmental Protection Technology Co., Ltd., Nanning 530007, China) ,  Mailhot Gilles (Institut de Chimie de Clermont-Ferrand, CNRS, SIGMA Clermont, Universite Clermont Auvergne, F-63000 Clermont-Ferrand, France)
資料名： Processes (Web)  (Processes (Web))
巻： 9  号： 1  ページ： 29  発行年： 2020年 
JST資料番号： U7264A  ISSN： 2227-9717  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 超純水および種々の天然水におけるエチレンジアミン-N,N-ジコハク酸(EDDS)修飾光-Fenton系による2,4-ジクロロフェノール(2,4-DCP)処理の研究について述べた。結果は,EDDS修飾光-Fentonシステムが2,4-DCP分解に適切であることを示した。単一有機汚染物質を含む培地と比較して,2つの有機化合物から成るより複雑な媒体における汚染物質の除去は,有機汚染物質の関数として約25~50%遅くなる。さらに,2,4-DCPは有機材料および種々の無機イオンの存在下でさらに効果的に分解できた。しかし,天然湖水,家庭下水処理施設からの排水,およびパルプと製紙工場廃水からの二次排水を含む,種々の天然水における2,4-DCPの光分解は,阻害される。天然水中に存在する化学物質は,EDDS修飾光-Fentonシステムを採用することによって,2,4-DCPの分解に異なる影響を及ぼす。いずれの場合も,本研究で得られた結果は,EDDS修飾光-Fentonシステムが天然水体中の汚染物質を効果的に分解でき,天然水体中の汚染物質を処理するための有望な技術になることを示す。Copyright 2021 The Author(s) All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： パルプ ,  下水処理施設 ,  工場廃水 ,  汚染物質 ,  抄造 ,  媒質 ,  *下水処理水 ,  有機化合物 ,  光分解 ,  超純水 ,  天然水
準シソーラス用語： 無機イオン ,  *光-Fenton ,  有機汚染物質 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 光-Fenton ,  EDDS ,  24DCP ,  有機物 ,  無機イオン ,  天然水体

分類 (3件)： 下水,廃水の化学的処理  (SC03050W) ,  その他の廃水処理・処分  (SC03070S) ,  光化学反応  (CB08020F)

物質索引 (1件)： 2,4-ジクロロフェノール

引用文献 (55件)：

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• Sivagami, K.; Sakthivel, K.P.; Nambi, I.M. Advanced oxidation processes for the treatment of tannery wastewater. J. Environ. Chem. Eng. 2018, 6, 3656-3663.
• Kanakaraju, D.; Glass, B.D.; Oelgemoller, M. Advanced oxidation process-mediated removal of pharmaceuticals from water: A review. J. Environ. Manag. 2018, 219, 189-207.
• Pignatello, J.J.; Oliveros, E.; MacKay, A. Advanced Oxidation Processes for Organic Contaminant Destruction Based on the Fenton Reaction and Related Chemistry. Crit. Rev. Environ. Sci. Technol. 2006, 36, 1-84.
• Fatta-Kassinos, D.; Vasquez, M.I.; Kümmerer, K. Transformation products of pharmaceuticals in surface waters and wastewater formed during photolysis and advanced oxidation processes-Degradation, elucidation of byproducts and assessment of their biological potency. Chemosphere 2011, 85, 693-709.

タイトルに関連する用語 (7件)： エチレンジアミン ,  こはく酸 ,  修飾 ,  光-Fenton ,  分解 ,  天然水 ,  化学物質