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J-GLOBAL ID：202102264777948815   整理番号：21A0183635

原子状水素による表面洗浄法のin-situ評価

In-situ evaluation of surface cleaning method by atomic hydrogen

著者 (2件)： 新部正人 (兵庫県大 高度研) ,  部家彰 (兵庫県大 工)
資料名： X線分析討論会講演要旨集  (X線分析討論会講演予稿集)
巻： 56th (CD-ROM)  ページ： 83-84  発行年： 2020年10月28日 
JST資料番号： S0881A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *水素 ,  *洗浄 ,  *表面 ,  *照射 ,  ラジカル ,  *エッチング ,  その場観察 ,  タングステン ,  還元 ,  軟X線 ,  *表面構造 ,  変化 ,  X線吸収スペクトル ,  アルミニウム ,  酸化膜 ,  *グラフェン ,  炭化水素 ,  汚染物質 ,  カルボニル基 ,  カルボキシ基
準シソーラス用語： *ラジカル照射 ,  *原子状水素 ,  *構造変化 ,  *表面洗浄

分類 (3件)： X線スペクトル一般  (BM08101P) ,  固体の表面構造一般  (BK15010E) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 原子状水素 ,  表面洗浄 ,  評価