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J-GLOBAL ID：202102268148778641   整理番号：21A1823857

アクティブフロー制御のためのパターン化液晶エラストマの構成モデリング【JST・京大機械翻訳】

Constitutive Modeling of Patterned Liquid Crystal Elastomer for Active Flow Control

著者 (5件)： Beblo Richard (University of Dayton Research Institute, Dayton, OH) ,  Settle Michael (University of Dayton Research Institute, Dayton, OH) ,  Guin Tyler (Azimuth Corporation, Dayton, OH) ,  White Timothy (Air Force Research Laboratory, WPAFB, OH) ,  Reich Gregory (Air Force Research Laboratory, WPAFB, OH)
資料名： ASME Conference Proceedings  (ASME Conference Proceedings)
号： SMASIS2017  ページ： Null  発行年： 2017年 
JST資料番号： A0478C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： パターン化液晶エラストマ(LCE)は,表面トポグラフィー制御において顕著な将来性を持つことが示されている。パターン化ディレクタープロファイルを有するLCE材料を用いて,大きく多様な形状および表面適応応答を示した。種々の技術を用いて,材料の表面を横切る結晶配向と厚さを通して,面外変形を設計する能力が得られる。これらのトポロジー的特徴は,交差流における物体上の抗力の中でも,アクティブフローエフェクタ操作として使用することができる。表面トポグラフィーは,境界層遷移,分離,および渦放出の干渉によって,皮膚摩擦抗力に大きい影響を及ぼすことはよく知られている。直交流における円筒に関しては,空間的に操作する表面トポグラフィー,従って抗力は,物体上の流体によって発揮される力を生じさせる。不均一表面トポグラフィーによる力の不均衡は,円筒を制御するために使用できる。そのようなシステムの設計は,広範囲の環境にわたる結晶方位パターンの最適化による表面トポグラフィーの最適化を必要とする。この最適化の鍵は,本研究で詳細に記述され,実験データに対して検証された正確な材料モデルである。エラストマ骨格と液晶の寄与の組み合わせとして材料の歪エネルギーを別々に表すことにより,ユニークな材料特性を適切にモデル化できる。これは,従来の等方性3鎖Arruda-Boyce超弾性方程式と,パターン化した液晶をモデリングした異方性拡張によるエラストマ骨格のモデリングによって達成され,異方性超弾性材料モデルをもたらした。そのモデルを用いて,種々のパターンの材料応答を予測し,可能な表面トポグラフィーの設計空間を調べた。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 位相幾何学 ,  *液晶 ,  抗力 ,  最適化 ,  摩擦抵抗 ,  結晶方位 ,  超弾性 ,  歪エネルギー ,  直交流 ,  境界層遷移 ,  *パターン形成
準シソーラス用語： 渦放出 ,  表面トポグラフィー ,  *エラストマ ,  材料モデル , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (5件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  液晶一般  (BK03010L) ,  その他の液晶  (BK03030H) ,  表面処理  (YH04112X) ,  ネマチック相  (BK03020W)

タイトルに関連する用語 (4件)： フロー制御 ,  パターン化 ,  液晶エラストマ ,  モデリング