文献
J-GLOBAL ID:202102270586767277   整理番号:21A1012873

高速流におけるタンデムにおけるマイクロボルテックスジェネレータの有効性【JST・京大機械翻訳】

Effectiveness of micro-vortex generators in tandem in high-speed flows
著者 (4件):
資料名:
巻: 2020  号: AIAA AVIATION 2020 FORUM  ページ: 2961  発行年: 2020年 
JST資料番号: H0236B  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
マイクロボルテックスジェネレータは,衝撃/境界層相互作用による流れ分離を緩和するための境界層抽気と吸引の代替を提供する。ここ20年間,多くのデバイスが分離において研究され,そこでは,流れ分離制御における研究に対して,流れ物理,あるいはタンデムの研究が焦点となっている。超音速自由流(別々の衝撃/境界層相互作用のない)における渦発生器の研究は,一般に単一装置の流れの理解に焦点を合わせてきたが,タンデムで使用されている流れへの影響は,非常に詳細には調べられていない。本研究は,サイドバイサイドに置かれた2つのマイクロ渦発生器の構成を最適化するために,装置間間隔の系統的方法での影響を研究した。一組の目的関数を,境界層積分特性を用いて設計し,種々のデバイス間隔に対して決定した。本研究では,単純,スロット付き,および傾斜ベーンデバイスを調べた。結果は,増加したデバイス間隔が,デバイス抗力を減少させるが,境界層を悪化させることを示した。RANS計算は,渦発生器を点雲とする浸漬境界法を用いて実行した。最後に,流れ分離の緩和に及ぼす渦発生器のデバイス間隔の影響を,Mach2.5衝突斜め衝撃/境界層相互作用のシミュレーションを用いて試験した。フロー分離プロフィルは,傾斜したベーンデバイスがスロット付きデバイスと比較して分離の良好な緩和を提供し,その性能がデバイス間間隔の減少で改善されることを示した。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (3件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
航空機の空気力学  ,  高速空気力学  ,  層流,乱流,境界層 
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る