文献

J-GLOBAL ID：202102271446063693   整理番号：21A1823382

水素活性化コアレッセンスの分子動力学シミュレーションとナノボイドの成長【JST・京大機械翻訳】

Molecular Dynamics Simulation of Hydrogen-Activated Coalescence and Growth of Nano-Voids

著者 (5件)： Zheng Yao-Ting (Xi’an Jiaotong University, Xi’an, China) ,  Zhang Zaoxiao (Xi’an Jiaotong University, Xi’an, China) ,  Cheng Guang-xu (Xi’an Jiaotong University, Xi’an, China) ,  Xuan Fu-Zhen (East China University of Science and Technology, Shanghai, China) ,  Wang Zhengdong (East China University of Science and Technology, Shanghai, China)
資料名： ASME Conference Proceedings  (ASME Conference Proceedings)
号： PVP2017  ページ： Null  発行年： 2017年 
JST資料番号： A0478C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 水素脆化(HE)の理解は,工業的金属材料へのそのマイナス効果のために,重要な重要性と基本的関心事である。ボイドの合体と成長に及ぼす溶質Hの影響を明らかにする必要がある。分子動力学シミュレーションを用いて,既存のナノボイドの進展をH原子の存在下で研究した。ボイド表面上のトラップされたH原子の単位面積濃度が0.45/Å2に達すると,ボイドの移動が観察された。それはボイドの周りのHとFe原子の相互拡散と共に進行する。ボイド表面から最近接ボイド間のゾーンへのH原子の歪媒介拡散が最初に起こる。次に,Fe原子は移動Hによって影響され,エネルギー最小化の原理に従って反対方向に拡散する。このような機構はナノスケールでの高圧気泡の形成を理解するのに役立つ。この有用な情報に基づいて,ドーパントによるボイドの周りの金属格子の安定性の強化のようなボイドの成長を防止するためのいくつかの方法を得ることができた。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 気泡 ,  高圧 ,  相互拡散 ,  *水素 ,  鉄 ,  金属材料 ,  *コアレッセンス ,  溶質 ,  ドーパント
準シソーラス用語： エネルギー最小化 ,  ナノスケール ,  *分子動力学シミュレーション ,  *ナノボイド ,  水素原子 ,  水素脆化 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 金属の格子欠陥  (BK12030F) ,  機械的性質  (WB02030U)

タイトルに関連する用語 (6件)： 水素 ,  活性化 ,  コアレッセンス ,  分子動力学シミュレーション ,  ナノボイド ,  成長