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J-GLOBAL ID：202102271580011253   整理番号：21A0834748

タッチスクリーン向けの新しいIn₂O₃透明導電性酸化物材料

Novel In₂O₃ Based Transparent Conducting Oxide Material for Touch Screen

著者 (4件)： AKIIKE Ryo (Tosoh Corp., Kanagawa, JPN) ,  TSUCHIDA Yuya (Tosoh Corp., Kanagawa, JPN) ,  HARA Hiroyuki (Tosoh Corp., Kanagawa, JPN) ,  KURAMOCHI Hideto (Tosoh Corp., Kanagawa, JPN)
資料名： Proceedings of the International Display Workshops (CD-ROM)  (Proceedings of the International Display Workshops (CD-ROM))
巻： 24th  ページ： ROMBUNNO.INPp1-2  発行年： 2017年12月05日 
JST資料番号： L4269B  ISSN： 1883-2504  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ・フレキシブルタッチスクリーン向けの新しい超薄膜In₂O₃ベース透明導電性酸化物(TCO)(USRと命名)を提案し,特性とスパッタリングターゲットを紹介。
・In₂O₃に他の添加物を加え,焼結した物をグラインドしカットしてUSRスパッタリングターゲットを作成し,DCマグネトロンスパッタリングで蒸着。
・100度という低いアニール温度でフレキシブルタッチスクリーンに適した低抵抗率(217μΩ・cm)を達成,加速劣化試験による安定性はITOと同程度。
・透過率,反射率共にITOと同程度。

シソーラス用語： *化合物半導体 ,  *酸化物 ,  *酸化インジウム ,  半導体プロセス ,  加速試験 ,  寿命試験 ,  *タッチスクリーン ,  *フラットパネルディスプレイ ,  マグネトロンスパッタリング ,  焼なまし ,  電気抵抗率 ,  安定性 ,  透過率 ,  反射率 ,  酸化インジウムスズ
準シソーラス用語： DCマグネトロンスパッタリング ,  *フレキシブルディスプレイ ,  加速劣化試験 ,  光透過率 ,  光反射率 ,  低温プロセス ,  *透明導電性酸化物

分類 (2件)： 表示機器  (NC06030Q) ,  入出力装置  (JC04050U)

引用文献 (8件)：

• M. Huang, Z. Hameiri, A. G. Aberle, “Influence of discharge power and annealing temperature on the properties of indium tin oxide thin films prepared by pulsed-DC magnetron sputtering,” Vacuum, Vol. 121, pp.187-193 (2015)
• T. Karasawa, Y. Miyata, “Electrical and optical properties of indium tin oxide thin films deposited on unheated substrates by d.c. reactive sputtering,” Thin Solid Films, Vol. 223, pp.135-139 (1993)
• T. Hayashi, “TOUCH PANEL SAIZENSEN 2013-3014,” pp105-109
• M. Muraoka, M. Suzuki, Y. Sawada, “Sintering of tin-doped indium oxide ( Indium-Tin-Oxide, ITO ) with Bi₂O₃ additives,” J. Mater. Sci, Vol. 33, pp.5621-5624 (1998)
• M. Suzuki, M. Muraoka, Y. Sawada, J. Matsushita, “Sintering of indium-tin-oxide with vanadium oxide additive,” Mater. Sci. Eng. B, Vol.54, pp.46-50 (1998)

タイトルに関連する用語 (2件)： タッチスクリーン ,  透明導電性酸化物