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J-GLOBAL ID:202102274031976337   整理番号:21A0410560

マグネトロンスパッタリング法で調製したMoOx薄膜の材料特性【JST・京大機械翻訳】

Properties of MoOx thin films prepared by magnetron sputtering
著者 (3件):
資料名:
巻: 35  号:ページ: 211-218  発行年: 2020年 
JST資料番号: W1519A  ISSN: 1007-2780  CODEN: YYXIFY  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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MoOx材料は,その低い反射率のため,狭いサイドフレーム液晶ディスプレイ技術の分野で理想的な材料である。MoOx薄膜をマグネトロンスパッタリングによりガラス基板上に蒸着し,MoOx薄膜上に異なる金属層を堆積し,MoOx薄膜と金属層の特性を異なる方法で調べた。試験結果は以下のことを示した。MoOxとガラス基板との接着性は良好で,ガラス基板上への基板直接堆積は不要であった。MoOxとAlとCuの接着効果はMoとMTDなどのMo合金より優れていた。MoOx薄膜のシート抵抗値は大きく、金属層を重ねると、無視できる。MoOxの厚みは,金属膜の反射率と色差に大きな影響を与えるが,金属層の厚みは小さい。MoOxを低反材料とするプロセスに対して、MoOx材料の特性に従って異なる金属層を選択でき、反射率などの要求を満たせば、MoOx層の厚さを調整することで製品の色差を調整し、顧客の色好みの需要を満たすことができる。Data from Wanfang. Translated by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
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酸化物薄膜  ,  表示機器 
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