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J-GLOBAL ID：202102275214911497   整理番号：21A0960619

シリコンフォトニクスデバイスのためのCMOS/MEMSハイブリッドプロセス集積【JST・京大機械翻訳】

CMOS/MEMS Hybrid Process Integration for Silicon Photonics Devices

著者 (2件)： KINOSHITA Keizo (AIO Core Co., Ltd., Tokyo, JPN) ,  KINOSHITA Keizo (AIST Tsukuba West, Tsukuba, JPN)
資料名： プラズマプロセシング研究会プロシーディングス(CD-ROM)  (プラズマプロセシング研究会(CD-ROM))
巻： 37th  ページ： ROMBUNNO.AS2-11  発行年： 2019年 
JST資料番号： L4449B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

本文一部表示： シリコンフォトニックデバイスを作製するために,CMOS-fabの光学素子...【JST・京大機械翻訳】【本文一部表示】

シソーラス用語： アラインメント ,  エッチング ,  最適化 ,  半導体 ,  半導体レーザ ,  光検出器 ,  *ケイ素 ,  酸化物 ,  配線 ,  相互接続 ,  レーザビーム ,  導波路 ,  パターン形成 ,  *MEMS
準シソーラス用語： *シリコンフォトニクス , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 光集積回路,集積光学  (BD06050D) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： CMOS ,  MEMS ,  ハイブリッドプロセス ,  集積