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J-GLOBAL ID：202102278712536957   整理番号：21A0345944

異なるスパッタリング法によるAl_2O_3(0001)上に成長させたPt層の微細構造の調整【JST・京大機械翻訳】

Tuning the microstructure of the Pt layers grown on Al2O3 (0001) by different sputtering methods

著者 (11件)： Yildirim Oguz (Empa, Swiss Federal Laboratories for Materials Science and Technology, Laboratory for Magnetic and Functional Thin Films CH-8600 Duebendorf, Switzerland) ,  Borzi Aurelio (Empa, Swiss Federal Laboratories for Materials Science and Technology, Center for X-ray Analytics CH-8600 Duebendorf, Switzerland) ,  Falub Claudiu V. (Evatec AG, CH-9477 Truebbach, Switzerland) ,  Rohrmann Hartmut (Evatec AG, CH-9477 Truebbach, Switzerland) ,  Jaeger Dominik (Evatec AG, CH-9477 Truebbach, Switzerland) ,  Rechsteiner Marco (Evatec AG, CH-9477 Truebbach, Switzerland) ,  Schneider Daniel (Evatec AG, CH-9477 Truebbach, Switzerland) ,  Neels Antonia (Empa, Swiss Federal Laboratories for Materials Science and Technology, Center for X-ray Analytics CH-8600 Duebendorf, Switzerland) ,  Hug Hans J. (Empa, Swiss Federal Laboratories for Materials Science and Technology, Laboratory for Magnetic and Functional Thin Films CH-8600 Duebendorf, Switzerland) ,  Hug Hans J. (Department of Physics, University of Basel, CH-4056 Basel, Switzerland) ,  Marioni M.A. (Empa, Swiss Federal Laboratories for Materials Science and Technology, Laboratory for Magnetic and Functional Thin Films CH-8600 Duebendorf, Switzerland)
資料名： Scripta Materialia  (Scripta Materialia)
巻： 194  ページ： Null  発行年： 2021年 
JST資料番号： B0915A  ISSN： 1359-6462  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高品質エピタキシャルPt膜は,通常,分子ビーム蒸着(MBE)法によって成長し,そこでは,蒸着原子が典型的な熱エネルギーで基板に達する。良好なエピタキシャル成長を得るために,基板は数百から1000度の範囲の高温で保たれた。エピタキシャル品質はより高い基板温度で改善されるが,臨界温度以上では,Volmer-Weber成長モードが始まり,粗い膜形態を引き起こす。ここでは,Al_2O_3(0001)基板上にPtを成長させるために,新しいタイプの対向ターゲットカソード(FTC)を用いた。従来のスパッタリング源とは対照的に,FTC源は低い運動エネルギーを持つ吸着原子を提供するが,MBEに比べて高い成長速度を与える。本研究では,Pt膜の結晶構造を異なる基板温度で比較した。FTCを用いて,低歪の平坦なPt膜およびナノ結晶または高エピタキシャルのいずれかの形態を,基板温度の適切な選択により成長させた。Copyright 2021 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： エピタクシー ,  結晶構造 ,  高温 ,  臨界温度 ,  *白金 ,  分子ビーム ,  運動エネルギー ,  蒸着 ,  *スパッタ蒸着 ,  成長速度 ,  基板温度 ,  ナノ結晶
準シソーラス用語： 吸着原子 ,  熱エネルギー ,  成長モード , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 軸外スパッタリング ,  エピタクシー ,  逆空間マップ ,  吸着原子エネルギー ,  マグネトロンスパッタリング

分類 (4件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  磁性材料  (NA04040H) ,  酸化物薄膜  (BK14050P) ,  金属結晶の磁性  (BM06040T)

タイトルに関連する用語 (4件)： スパッタリング法 ,  成長 ,  Pt ,  微細構造