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J-GLOBAL ID：202102282451120911   整理番号：21A3198581

MeV陽子照射によるポリメタクリル酸メチル膜中のAuナノ粒子のその場生成【JST・京大機械翻訳】

In-situ generation of Au nanoparticles in poly(methyl methacrylate) films via MeV proton irradiation

著者 (9件)： Romanenko Oleksandr (Nuclear Physics Institute of the Czech Academy of Sciences, Hlavni 130, Rez 250 68, Czech Republic) ,  Slepicka Petr (Department of Solid State Engineering, University of Chemistry and Technology, Technicka 5, Prague, 166 28, Czech Republic) ,  Kvitek Ondrej (Department of Solid State Engineering, University of Chemistry and Technology, Technicka 5, Prague, 166 28, Czech Republic) ,  Slouf Miroslav (Institute of Macromolecular Chemistry, Czech Academy of Sciences, Heyrovskeho nam. 2, Prague, 162 06, Czech Republic) ,  Nemecek Pavel (Institute of Macromolecular Chemistry, Czech Academy of Sciences, Heyrovskeho nam. 2, Prague, 162 06, Czech Republic) ,  Havranek Vladimir (Nuclear Physics Institute of the Czech Academy of Sciences, Hlavni 130, Rez 250 68, Czech Republic) ,  Mackova Anna (Nuclear Physics Institute of the Czech Academy of Sciences, Hlavni 130, Rez 250 68, Czech Republic) ,  Mackova Anna (Department of Physics, Faculty of Science, J. E. Purkinje University, Ceske Mladeze 8, Usti nad Labem, 400 96, Czech Republic) ,  Svorcik Vaclav (Department of Solid State Engineering, University of Chemistry and Technology, Technicka 5, Prague, 166 28, Czech Republic)
資料名： Materials Chemistry and Physics  (Materials Chemistry and Physics)
巻： 275  ページ： Null  発行年： 2022年 
JST資料番号： E0934A  ISSN： 0254-0584  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： プラスレジストとしてリソグラフィーで広く利用されるPMMAのような放射線感受性高分子は,追加の処理なしに陽子照射により金属ナノ粒子を有するフレキシブルナノ複合材料を作製するのに使用できることを示した。4,10および16wt%の金を有する3つの50μm厚さの自立高分子膜を,PMMAとテトラクロロ金酸三水和物の混合物からスピンコーティング法で調製し,2-MeV陽子を照射した。2×1013~2×1014プロトン/cm2の範囲の蛍光を用いて,金ナノ粒子のその後の生成を伴う中性金属原子への金イオンを減少させた。UV-VisおよびFTIR分光法を用いて,放射線修飾後のAuナノ粒子合体を研究した。AFMおよびSEM顕微鏡は,高分子表面上のナノ粒子の形態を示し,一方,TEM顕微鏡を用いて,高分子内部に形成されたナノ粒子を可視化した。Auナノ粒子生成のフルエンスはPMMA上の陽子ビームリソグラフィーで使われるものより低いことが分かった。自立箔は両側から拡散するガスを生成したが,基板上に適用した高フルエンスに耐えなかった。生成したナノ粒子の濃度はPMMAマトリックス中の一次Au原子濃度と用いた陽子照射フルエンスの両方に依存した。金の10および16wt%を含むAu-PMMA複合材料において,2×1013プロトン/cm2のフルエンスは,光の共鳴吸収を得るための十分な量のナノ粒子を生成するのに十分であり,一方,4wt%の金を含む試料は,Au原子コアレッセンスを示すため,より高いプロトンフルエンスを必要とした。陽子照射により合成されたナノ粒子の量はPMMA中の金の濃度と用いたプロトンフルエンスに直接比例することを確認した。ナノ粒子のサイズに関しては,PMMA中の金濃度に直接比例するが,用いたフルエンスに反比例する。Copyright 2021 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 蛍光 ,  *陽子 ,  *陽子照射 ,  陽子ビーム ,  金 ,  *ポリメタクリル酸メチル ,  可視化 ,  レジスト ,  リソグラフィー ,  高分子膜 ,  フルエンス ,  FTIR分光法 ,  *ナノ粒子
準シソーラス用語： 金属ナノ粒子 ,  *金ナノ粒子 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： PMMA ,  金ナノ粒子 ,  陽子照射 ,  ナノ複合材料

分類 (2件)： 無機化合物一般及び元素  (CD01010D) ,  コロイド化学一般  (CB11010C)

タイトルに関連する用語 (3件)： 陽子照射 ,  ポリメタクリル酸メチル膜 ,  Auナノ粒子