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J-GLOBAL ID：202102283750180156   整理番号：21A2169995

ソフト材料由来リソグラフィーを用いた湾曲ナノ構造の創製【JST・京大機械翻訳】

Creation of Curved Nanostructures Using Soft-Materials-Derived Lithography

著者 (10件)： Jang Hyun-Ik (National NanoFab Center, 291 Daehak-ro, Yuseong-gu, Deajeon 34141, Korea) ,  Jang Hyun-Ik (Nanoin Inc., 291 Daehak-ro, Yuseong-gu, Deajeon 34141, Korea) ,  Yoon Hae-Su (National NanoFab Center, 291 Daehak-ro, Yuseong-gu, Deajeon 34141, Korea) ,  Yoon Hae-Su (Nanoin Inc., 291 Daehak-ro, Yuseong-gu, Deajeon 34141, Korea) ,  Lee Tae-Ik (Joining R&D Group, KITECH, 156 Gaetbeol-ro, Yeonsu-gu, Incheon 21999, Korea) ,  Lee Sangmin (Department of Mechanical Engineering, KAIST, 291 Daehak-ro, Yuseong-gu, Deajeon 34141, Korea) ,  Kim Taek-Soo (Department of Mechanical Engineering, KAIST, 291 Daehak-ro, Yuseong-gu, Deajeon 34141, Korea) ,  Shim Jaesool (School of Mechanical Engineering, Yeungnam University, 280 Daehak-ro, Gyeongsan-si, Gyeongbuk 38541, Korea) ,  Park Jae Hong (National NanoFab Center, 291 Daehak-ro, Yuseong-gu, Deajeon 34141, Korea) ,  Park Jae Hong (Nanoin Inc., 291 Daehak-ro, Yuseong-gu, Deajeon 34141, Korea)
資料名： Nanomaterials (Web)  (Nanomaterials (Web))
巻： 10  号： 12  ページ： 2414  発行年： 2020年 
JST資料番号： U7252A  ISSN： 2079-4991  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,高分子およびシリコーン基板の結合,膨潤および破壊過程を通して,Si基板上に得るのが困難な湾曲ナノ構造を作製した。この方法は,大面積にわたる凸ナノ構造を得るために利用できる。この方法は,フォトリソグラフィーによる典型的な半導体処理よりも簡単で,湿式または真空ベースドライエッチングプロセスと比較した。ポリマー結合,膨潤(または膨潤なし),およびこのプロセスで行われる破壊プロセスを,透過性とモデリングの数値解析によって理論的に解析した。このプロセスを通して,正確な方法で実験的に製造できる凸ナノ構造を設計した。Copyright 2021 The Author(s) All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 重合体 ,  数値解析 ,  半導体 ,  膨潤 ,  高分子 ,  *リソグラフィー ,  凸形 ,  フォトリソグラフィー ,  *ナノ構造
準シソーラス用語： シリコンウエハ ,  ソフトリソグラフィー ,  透過性 ,  ナノパターニング ,  大面積 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： ナノ構造 ,  ナノパターン形成 ,  ソフトリソグラフィー ,  軟質材料 ,  膨潤

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (21件)：

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タイトルに関連する用語 (5件)： ソフト ,  リソグラフィー ,  湾曲 ,  ナノ構造 ,  創製