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J-GLOBAL ID：202102284955799038   整理番号：21A2322757

親水性ナノシリカ上へのグリシジルオキシプロピルトリメトキシシランのグラフト化による親水性添加剤の合成と自己洗浄被覆のためのジメチルプロピオン酸を用いた修飾【JST・京大機械翻訳】

Synthesis of the hydrophilic additive by grafting glycidyloxypropyl trimethoxysilane on hydrophilic nanosilica and its modification by using dimethyl propionic acid for self-cleaning coatings

著者 (2件)： Bamane P.B. (Department of Polymer Engineering and Technology, Institute of Chemical Technology Mumbai, 400019, Maharashtra, India) ,  Jagtap R.N. (Department of Polymer Engineering and Technology, Institute of Chemical Technology Mumbai, 400019, Maharashtra, India)
資料名： Colloid and Interface Science Communications  (Colloid and Interface Science Communications)
巻： 43  ページ： Null  発行年： 2021年 
JST資料番号： W3024A  ISSN： 2215-0382  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,親水性添加剤を2段階反応で合成した。第一段階は,親水性ヒュームドシリカ上へのGPTMSのグラフト化であった。エポキシ開環反応を,2次酸(ジメチルプロピオン酸)で処理して,第二段階で行った。これらの添加物を水ベースアクリル系に添加し,親水性を調べた。添加物を,Fourier変換赤外分光法(FTIR),固体シリカ-核磁気共鳴(NMR),X線回折(XRD),高分解能透過型電子顕微鏡(HR-TEM)を用いて,選択領域電子回折(SAED),熱重量分析(TGA),粒径,およびZeta電位分析(DLS)を用いて特性評価した。添加物添加被覆を,走査電子顕微鏡(SEM),接触角,および染色抵抗試験を用いて特性評価し,添加剤分散,親水性および自己浄化特性を評価した。0.5phrの添加物を組み込んだ被覆は,優れた親水性と自己洗浄特性を示した。Copyright 2021 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： NMR【磁気共鳴】 ,  X線回折 ,  接触角 ,  走査電子顕微鏡 ,  電位 ,  *被覆 ,  自浄作用 ,  X線回折分析 ,  *親水性 ,  熱重量分析 ,  *二酸化ケイ素 ,  染色 ,  開環反応 ,  シリカヒューム ,  FTIR分光法
準シソーラス用語： *シリカナノ粒子 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： コーティング ,  GPTMS ,  親水性添加剤 ,  ナノ材料 ,  自己洗浄

分類 (4件)： 高分子固体のその他の性質  (CG02025L) ,  固-液界面  (CB12050B) ,  セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V) ,  付加反応,脱離反応  (CF02030M)

タイトルに関連する用語 (8件)： 親水性 ,  ナノシリカ ,  グラフト ,  添加剤 ,  自己洗浄 ,  ジメチル ,  プロピオン酸 ,  修飾