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J-GLOBAL ID：202102288878301029   整理番号：21A3407651

窒素ガス環境におけるシリコン表面上の水の接触角に及ぼす圧力の影響の理解:低温および高温領域間のコントラスト【JST・京大機械翻訳】

Understanding the effects of pressure on the contact angle of water on a silicon surface in nitrogen gas environment: Contrasts between low- and high-temperature regimes

著者 (3件)： Song Jia-Wen (Institute of Thermal Science and Power Systems, School of Energy Engineering, Zhejiang University, Hangzhou, Zhejiang 310027, People’s Republic of China) ,  Fan Li-Wu (Institute of Thermal Science and Power Systems, School of Energy Engineering, Zhejiang University, Hangzhou, Zhejiang 310027, People’s Republic of China) ,  Fan Li-Wu (State Key Laboratory of Clean Energy Utilization, Zhejiang University, Hangzhou, Zhejiang 310027, People’s Republic of China)
資料名： Journal of Colloid and Interface Science  (Journal of Colloid and Interface Science)
巻： 607  号： P2  ページ： 1571-1579  発行年： 2022年 
JST資料番号： C0279A  ISSN： 0021-9797  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 接触角の圧力依存性は温度に影響されると予想される。それにもかかわらず,水接触角と圧力との相関は,高温(100°C以上)ではほとんど研究されていない。本研究では,N_2雰囲気中での水の接触角と界面張力の測定を,種々の圧力と温度(最高17MPaと300°C)で行った。実験観察を表面熱力学理論に基づいて解明した。水-N_2界面張力は圧力の増加と共に直線的に減少し,圧力係数は温度上昇とともに低下することが分かった。水接触角の圧力依存性は低温および高温領域に対して異なることが分かった:水接触角は100°C以下で増加し,一方,逆変動は100°C以上で起きた。理論解析によると,水界面張力と接触角の両方の圧力依存性は,水とシリコンの表面上のN_2吸着に起因した。サインと大きさの両方を含む圧力による水接触角の変化は,圧力と温度によって操作された水-N_2とSi-N_2界面張力の変化の結果である。Copyright 2021 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 界面張力 ,  吸着 ,  *高温 ,  *コントラスト ,  *接触角 ,  *低温 ,  濡れ ,  *ケイ素 ,  圧力効果 ,  昇温
準シソーラス用語： シリコンウエハ ,  理論解析 ,  *窒素ガス ,  水接触角 ,  表面熱力学 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 接触角 ,  高温 ,  圧力依存性 ,  シリコン基板 ,  表面熱力学 ,  濡れ

分類 (1件)： 固-液界面  (CB12050B)

タイトルに関連する用語 (9件)： 窒素ガス ,  環境 ,  シリコン ,  水 ,  接触角 ,  理解 ,  低温 ,  高温領域 ,  コントラスト