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J-GLOBAL ID:202102290109502629   整理番号:21A0426498

CMOS負性微分抵抗(NDR)に基づくシリコンニューロントランジスタ

Silicon neuron transistor based on CMOS negative differential resistance (NDR)
著者 (9件):
資料名:
巻: 17  号: 24  ページ: 20200316(J-STAGE)  発行年: 2020年 
JST資料番号: U0039A  ISSN: 1349-2543  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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計算機科学指向および神経科学指向は,汎用人工知能(AGI)を開発するための2つの一般的アプローチである。本研究では,AGI応用のための神経科学手法を用いてシリコンニューロントランジスタを開発した。ニューロン挙動(”加重和と閾値”関数)は,相補的金属-酸化物-半導体(CMOS)負性微分抵抗(NDR)理論に基づいている。このニューロントランジスタはUMC 180nm商用標準CMOSプロセスにより実装され,これは全ニューラルネットワークの実装,あるいは同じチップ上の他のCMOS回路との集積に有益である。このニューロントランジスタは,それぞれ3つの入力V<sub>g1</sub>,V<sub>g2</sub>,およびV<sub>g3</sub>と制御端末,V<sub>con</sub>,負荷端子,V<sub>b(load)</sub>,および駆動端末V<sub>b(ドライバ)</sub>から成る。各入力の幅は1.8μmであり,入力は,それぞれ1,2,および4のフィンガがあり,重量比は1:2:4であった。V<sub>b(load)</sub>とV<sub>b(ドライバ)</sub>は,従来の人工ニューラルネットワークと比較して,改善された感度とより少ない複雑性で,ニューロントランジスタを実際の生物学的ニューロンとより密接に似せることを可能にする。このニューロンMOSトランジスタを10kHzの最大周波数で測定した。それは,<10<sup>-4</sup>μWの非常に低い電力消費と30×15μm<sup>2</sup>の小いさいフットプリントを有した。プロセス特徴サイズが減少すると,このチップの動作周波数は1桁増加し,一方電力消費とフットプリントは減少する。(翻訳著者抄録)
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分類 (1件):
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トランジスタ 
引用文献 (37件):
  • [1] K. He, et al.: “Deep residual learning for image recognition,” Proceedings of 2016 IEEE Conference on Computer Vision And Pattern Recognition (2016) 770 (DOI: 10.1109/cvpr.2016.90).
  • [2] T. Young, et al.: “Recent trends in deep learning based natural language processing,” IEEE Comput. Intell. Mag. 13 (2018) 55 (DOI: 10.1109/mci.2018.2840738).
  • [3] G. Hinton, et al.: “Deep neural networks for acoustic modeling in speech recognition: the shared views of four research groups,” IEEE Signal Process. Mag. 29 (2012) 82 (DOI: 10.1109/MSP.2012.2205597).
  • [4] Y. LeCun, et al.: “Deep learning,” Nature 521 (2015) 436 (DOI: 10.1038/nature14539).
  • [5] J. Pei, et al.: “Towards artificial general intelligence with hybrid Tianjic chip architecture,” Nature 572 (2019) 106 (DOI: 10.1038/s41586-019-1424-8).
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