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J-GLOBAL ID：202102291683159236   整理番号：21A0317453

高濃度ナノシリカスラリーのゼータ電位の測定【JST・京大機械翻訳】

Zeta Potential Measurement of High Concentration Nano-Silica Slurry

著者 (6件)： Chen Ying (上海市計量測試技術研究院,上海 201203) ,  Zhou Ying (上海市計量測試技術研究院,上海 201203) ,  Li Yanjun (上海市計量測試技術研究院,上海 201203) ,  Hao Yuhong (上海市計量測試技術研究院,上海 201203) ,  Hao Ping (上海市計量測試技術研究院,上海 201203) ,  Wu Limin (上海市計量測試技術研究院,上海 201203)
資料名： Lihua Jianyan - Wuli Fence  (Lihua Jianyan - Wuli Fence)
巻： 56  号： 11  ページ： 19-24,30  発行年： 2020年 
JST資料番号： C3492A  ISSN： 1001-4012  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 高濃度ナノシリカスラリーは結晶円化学機械研磨の常用研磨剤であり、スラリー中の高濃度ナノ粒子懸濁液システムの分散安定性を保つことはキー技術であり、通常Zeta電位で特徴付けるが、高濃度スラリーのζ電位測定は依然として多くの問題が存在している。電気泳動光散乱法を用い、希釈と遠心方式でスラリー濃度を下げることで、高濃度ナノシリカスラリーのζ電位を測定し、この方法の実行可能性を研究した。結果は以下を示した。粒子表面と溶液間の化学平衡を保持できる原液平衡希釈法は、高濃度サンプルZeta電位を正確に測定する基礎である。上澄み液の高濃度スラリーの希釈に対して、遠心分離は粒子濃度のサンプル調製方法を下げることで、快速かつ正確にZeta電位測定結果を得ることができる。同じ分散系では,ζ電位の測定値は,分散系中の粒径とは相関しなかった。Data from Wanfang. Translated by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 懸濁液 ,  *電位 ,  電気泳動 ,  分散系 ,  スラリー ,  希釈 ,  *ζ電位 ,  化学平衡 ,  試料調製 ,  研磨剤 ,  ナノ粒子 ,  化学機械研磨
準シソーラス用語： *高濃度 ,  分散安定性 ,  粒子濃度 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  生物薬剤学(基礎)  (GY01021U)

タイトルに関連する用語 (2件)： 高濃度 ,  ゼータ電位