微細加工された酸化物の膜の形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大谷嘉一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-141853
公開番号（公開出願番号）：特開2021-026062
出願日： 2019年08月01日
公開日（公表日）： 2021年02月22日
要約：

【課題】所定の微細形状又はパターニングされた状態に成膜できる酸化物の膜の形成方法の提供を目的とする。【解決手段】基板の表面にフォトレジスト材料を用いて所定の微細形状又はパターニングされたフォトレジスト層を形成するステップと、前記表面にa-CaO膜を形成するステップと、次に溶剤に浸漬し前記フォトレジスト層を有する部分を除去するステップと、次に前記表面に酸化物の膜を成長させるステップと、次に水に浸漬して前記a-CaO膜を有する部分を除去するステップとを有することを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板の表面にフォトレジスト材料を用いて所定の微細形状又はパターニングされたフォトレジスト層を形成するステップと、前記表面にa-CaO膜を形成するステップと、次に溶剤に浸漬し前記フォトレジスト層を有する部分を除去するステップと、次に前記表面に酸化物の膜を成長させるステップと、次に水に浸漬して前記a-CaO膜を有する部分を除去するステップとを有することを特徴とする微細加工された酸化物の膜の形成方法。

IPC (4件)：

G03F 7/26 , H01L 21/306 , H01L 21/027 , G03F 7/20

FI (4件)：

G03F7/26 513 , H01L21/306 N , H01L21/30 576 , G03F7/20 501

Fターム (8件)：

2H196AA25 , 2H196AA27 , 2H196HA28 , 2H197JA15 , 5F043AA07 , 5F043BB25 , 5F043DD18 , 5F146MA02

引用特許：

出願人引用 (2件)

部位により配向性が異なる酸化物超電導薄膜の作製方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-059512 出願人：住友電気工業株式会社
特開平4-307772

審査官引用 (2件)

部位により配向性が異なる酸化物超電導薄膜の作製方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-059512 出願人：住友電気工業株式会社
特開平4-307772

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