特許

J-GLOBAL ID：202103001451012816

スラリー保管装置、スラリー製造システム及びスラリー保管方法

発明者： 大西 慶一郎 ,  浅見 圭一 ,  向井 孝志 ,  坂本 太地 ,  田中 秀明 ,  妹尾 博 ,  柳田 昌宏
出願人/特許権者： 日本スピンドル製造株式会社 ,  国立研究開発法人産業技術総合研究所
代理人 (1件)： 特許業務法人雄渾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2020-016442
公開番号（公開出願番号）：特開2021-123366
出願日： 2020年02月03日
公開日（公表日）： 2021年08月30日
要約：

【課題】本発明は、水系スラリーのうち、特にハイニッケル材料を含有する水系スラリーを適切に保管することができるスラリー保管装置、スラリー製造システム、及びスラリー保管方法を提供する。【解決手段】分散装置にて調製されたハイニッケル材料を含有するスラリーを保持する保持手段と、水系スラリーのpH値上昇を抑制するpH値上昇抑制手段とを備えるスラリー保管装置及びスラリー保管方法、並びにスラリー製造システム。ハイニッケル材料を含有する水系スラリーのpH値上昇を抑制するpH値上昇抑制手段を設けることにより、保持手段内に保持した水系スラリーの経時変化によるアルカリ化を抑止し、スラリーの物性が変質することを抑制することができる。これにより、ハイニッケル材料を含有する水系スラリーを長期間安定して保管することが可能となる。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

粉体と溶媒とを混合する分散装置にて調製されたハイニッケル材料を含有する水系スラリーを保管するスラリー保管装置であって、 前記水系スラリーを保持する保持手段と、 前記水系スラリーのpH値上昇を抑制するpH値上昇抑制手段と、を備えることを特徴とする、スラリー保管装置。

IPC (5件)：

B65D 90/00 ,  H01M 4/139 ,  H01M 4/525 ,  B01F 15/00 ,  B01F 15/02

FI (5件)：

B65D90/00 A ,  H01M4/139 ,  H01M4/525 ,  B01F15/00 Z ,  B01F15/02 A

Fターム (28件)：

3E070AA02 ,  3E070AB01 ,  3E070CA20 ,  3E070CB20 ,  3E070GB04 ,  3E070RA02 ,  3E070RA30 ,  3E070VA30 ,  3E070WA02 ,  3E170AA02 ,  3E170AB01 ,  3E170CA10 ,  3E170CB10 ,  3E170GB04 ,  3E170RA02 ,  3E170RA20 ,  3E170VA20 ,  4G037AA01 ,  4G037DA18 ,  4G037EA04 ,  5H050AA19 ,  5H050BA17 ,  5H050CA08 ,  5H050GA03 ,  5H050GA10 ,  5H050GA27 ,  5H050GA28 ,  5H050GA30