特許

J-GLOBAL ID：202103002787088400

膜アセンブリを製造する方法

発明者： ハウエリング,ゾマー,シルベスター ,  カシミリ,エリック,ウィレム,フェリックス ,  ドルツィニナ,タマラ ,  ヤンセン,ポール ,  クイケン,マイケル,アルフレッド,ヨセフス ,  リーンダース,マルチヌス,ヘンドリカス,アントニアス ,  オーステルホフ,シッコ ,  ピーター,マリア ,  ヴァン デル ザンデ,ウィレム,ヨアン ,  ヴァン ツヴォル,ピーター-ジャン ,  フェルブルッヘ,ベアトリス,ルイーズ,マリー-ヨセフ,カトリーン ,  フェルメーレン,ヨハネス,ペトラス,マルチヌス,ベルナルドス ,  ヴレス,デイビッド,フェルディナンド ,  フォールトハイゼン,ウィレム-ピーター
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (4件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史 ,  江口 昭彦 ,  内藤 和彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-510090
特許番号：特許第6830097号
出願日： 2016年08月26日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 EUVリソグラフィのための膜アセンブリを製造する方法であって、前記方法は、 内部領域と、前記内部領域の周りの縁領域と、前記縁領域の周りのブリッジ領域と、前記ブリッジ領域の周りのエッジ領域とを備えた平面基板、及び少なくとも1つの膜層を備えたスタックを設けることと、 前記平面基板の前記ブリッジ領域に隣接する前記少なくとも1つの膜層を貫通するブリッジ溝を形成することと、 前記膜アセンブリが、 前記少なくとも1つの膜層から形成される膜と、 前記平面基板の前記縁領域から形成される、前記膜を保持する縁と、 前記平面基板の前記エッジ領域から形成される、前記縁の周りのエッジセクションと、 前記少なくとも1つの膜層によって形成される、前記縁と前記エッジセクションの間のブリッジとを備えるように、前記平面基板の前記内部領域及び前記ブリッジ領域を選択的に除去することと、 前記エッジセクションに隣接する前記少なくとも1つの膜層が前記ブリッジ溝によって前記膜から分離されるように、前記エッジセクションを前記縁から分離することと、を含む方法。

IPC (2件)：

G03F 1/62 ( 201 2.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01)

FI (3件)：

G03F 1/62 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特許第6623893号
  
• リソグラフィ用ペリクルおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-103628   出願人：信越化学工業株式会社
• EUV用ペリクル膜及びペリクル、並びに該膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-006652   出願人：信越化学工業株式会社

審査官引用 (3件)

• 特許第6623893号
  
• リソグラフィ用ペリクルおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-103628   出願人：信越化学工業株式会社
• EUV用ペリクル膜及びペリクル、並びに該膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-006652   出願人：信越化学工業株式会社